研究者

J-GLOBAL ID：200901004223661630 更新日: 2024年07月22日

渡邊健夫

ワタナベタケオ | Watanabe Takeo

所属機関・部署：
職名：特任教授
ホームページURL (2件)： http://www.lasti.u-hyogo.ac.jp , https://www.lasti.u-hyogo.ac.jp/english/index.html

研究分野 (2件)：電子デバイス、電子機器 , 光工学、光量子科学

研究キーワード (2件)：電子デバイス・機器工学 , 応用光学・量子光工学

競争的資金等の研究課題 (11件)：

2015 - 2018 軟X線領域の薄膜の光学定数の精密測定
2013 - 2016 高感度且つ低LWRを有する1Xnm級EUVレジストの開発
2010 - 2012 EUV 干渉露光による 20nm以下の極微細パタン形成
2003 - 2005 極端紫外域での位相差型X線顕微鏡による表面微細構造観察
1999 - 2001 薄膜堆積法によるX線光学素子用非球面形状の創製

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論文 (310件)：

Takahiro Ueda, Marcio D. Lima, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Takeshi Kondo. EUV durability of CNT pellicles for next-generation scanner. Japanese Journal of Applied Physics. 2024. 63. 3
Rikuya Imai, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe. Present Status of EUV Interference Lithography at NewSUBARU. Journal of Photopolymer Science and Technology. 2023. 36. 1. 53-59
Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Koji Nakanishi, Takeo Watanabe. Characterization of Photoacid Generator Bound Resist with X-ray Absorption Spectroscopy at NewSUBARU. Journal of Photopolymer Science and Technology. 2023. 36. 1. 47-52
Atsunori Nakamoto, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe. Spatial Distribution Analysis of Polymers in Resist Thin Film by Reflection-mode Resonant Soft X-ray Scattering. Journal of Photopolymer Science and Technology. 2023. 36. 1. 41-45
Shuhei Iguchi, Tetsuo Harada, Shinji Yamakawa, Takeo Watanabe, Takeharu Motokawa. Spatial Distribution Imaging of Resist Thin Film with Micrometer Resolution using Reflection Type Soft X-ray Projection Microscope. Journal of Photopolymer Science and Technology. 2023. 36. 1. 25-30

MISC (194件)：

中本敦啓, 山川進二, 原田哲男, 渡邊健夫. レジスト薄膜中の空間分布測定を目的とした軟X線反射型共鳴散乱の検討. X線分析討論会講演要旨集. 2022. 58th
原田哲男, 渡邊健夫. レンズレス顕微鏡によるEUVマスク観察. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2021. 68th
吉田一輝, 松尾直人, 住友弘二, 部家彰, 山名一成, 原田哲男, 渡邊健夫, 田部井哲夫. 放射線によるDNA損傷とトランジスタ特性変動の相関解明. 生体医歯工学共同研究拠点成果報告書. 2021. 2020
四家寛也, 黒田理人, 黒田理人, 黒田理人, 小林諒太, 村田真麻, 藤原康行, 鈴木学, 原田将真, 柴口拓, et al. 45μm厚裏面照射型フォトダイオード・2段LOFICを有する広ダイナミックレンジ軟X線検出グローバルシャッタCMOSイメージセンサ. 映像情報メディア学会技術報告. 2021. 45. 11(IST2021 8-21)
原田哲男, 寺西信一, 寺西信一, 渡邊健夫, ZHOU Quan, BOGAERTS Jan, WANG Xinyang. 軟X線領域において量子効率90%以上の性能を有する背面照射型CMOSイメージセンサの開発. 日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web). 2020. 33rd

特許 (35件)：

感光性樹脂及び感光性組成物
Photosensitive Resin, and Photosensitive Composition
形状測定装置
短波長コヒーレント光源及び透過型の減光機構
感光性樹脂及び感光性組成物

書籍 (27件)：

CRDS 研究開発の俯瞰報告書ナノテクノロジー・材料分野
国立研究開発法人科学振興機構編 2023
フォトレジストの最先端技術
CMC出版 2022
基礎研究および産業利用を推進する放射光施設「ニュースバル」
文門科学教育通信文部科学省 2022
CRDS 研究開発の俯瞰報告書ナノテクノロジー・材料分野
国立研究開発法人科学振興機構編 2021
UV・EB硬化の最新開発動向
CMC出版 2021

講演・口頭発表等 (882件)：

EUVリソグラフィおよびレジスト・フォトマスクの概要、Beyond EUVLへの将来展望 ~目指すべき半導体業界の将来像~
(「EUVリソグラフィ」AndTech WEB講習会(オンライン) 2023)
Technical issue of EUVL, prospect for EUVL and beyond EUVL
(IEUVI Resist TWG Workshop 2023 (online))
EUVリソグラフィ技術開発の現状およびその取り巻く環境、今後の展開
(第253回フォトポリマー懇話会講演会先端・次世代リソグラフィ技術(オンライン) 2023)
EUVリソグラフィー技術開発の現状および今後の展開について
(第70回応用物理学会春季学術講演会シンポジウムマイクロ・ナノスケール微細加工の表面界面先端技術)
ニュースバルにおけるEUVL基板技術開発の現状と今後の展開
(ニュースバルシンポジウム2023 2023)

Works (3件)：

EUVリソグラフィ用レジスト材料の研究開発
1993 - 現在
EUVリソグラフィの研究
渡邊健夫 1993 - 現在
X線縮小露光評価技術の研究開発
1999 - 2001

学歴 (1件)：

1987 - 1990 大阪市立大学理学研究科後期博士課程物理学専攻

学位 (1件)：

理学博士 (大阪市立大学)

経歴 (18件)：

2023/04 - 現在兵庫県立大学学長特別補佐(先端研究担当)
2023/04 - 現在兵庫県立大学産学連携・研究推進機構放射光産業利用支援本部本部長代行
2022/04 - 現在兵庫県立大学学長特別補佐(先端科学技術・異分野融合研究推進)
2022/04 - 現在兵庫県立大学高度産業科学技術研究所所長特別補佐
2015/04 - 現在兵庫県立大学高度産業科学技術研究所極端紫外線リソグラフィー研究開発センターセンター長

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委員歴 (37件)：

2022 - 現在兵庫県「次世代電池・半導体技術開発拠点推進協議会」座長
2022 - 現在 International Conference on Photopolymer Science and Technology President
2021 - 現在一般社団法人日本半導体製造協会会員
2019/04 - 現在 Photomask Japan Conference chair
2018 - 現在 International Conference on Photomask Japan Conference Chair and Chair of the Organizing Committee

2017 - 現在 International Workshop on EUV Lithography EUVL Workshop Steering Committee

2016 - 現在 International Roadmap for Devices and Systems (IRDS) Committee Member of the Lithography Part

2014 - 現在フォトポリマー懇話会組織委員 / 企画委員

2013/01 - 現在 International Conference on Electron Ion Photon Beam Technology and Nanofabrication (EIPBN) 評価委員

2006/04 - 現在 International Conference on Photopolymer Science and Technology International Affairs, Director

2006/04 - 現在 International Conference on Photopolymer Science and Technology Organizing Committee

2005/04 - 現在 International Conference on Photopolymer Science and Technology Program Committee

2004/04 - 現在 International Conference on Photopolymer Science and Technology Session Chair

2004/04 - 現在 International Conference on Photopolymer Science and Technology Board member

2023 - Physics of X-Ray and Neutron Multilayer Structures (PXRNMS) Organizing Committee & Program Committee Members

2016 - 2019 International Conference on Photomask Japan Co-Chair of the Organizing Committee

2013 - 第74回応用物理学会学術講演会(秋季) 座長

2013 - 第60回応用物理学関係連合講演会(春季) 講演奨励賞審査員

2012 - 第73回応用物理学会学術講演会(秋季) 座長

2012 - 第59回応用物理学関係連合講演会(春季) 座長

2007 - 2011 International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC) Steering Committee Member

2007 - 2011 International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC) Program Committee Co-Chair

2005 - 2011 International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC) Program Committee Session Head

2002 - 2011 International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC) Session Chair of EUV Lithography

2010 - 応用物理学会学術講演会(秋季 / 第71回・第72回) 座長

2009 - International Symposium on EUV Lithography Session Chair

2005 - 2008 応用物理学会プログラム編集委員

2005 - 2007 International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC) Organizer of Symposium Session A

2005/04 - 2006/03 日本放射光学会企画委員

2005/04 - 2006/03 日本放射光学会組織委員

2004 - 2006 International Symposium on EUV Lithography Session Chair

2005/01 - 2005/12 The 8th International Conference on X-ray Microscope (XRM2005) Executive committee

2005 - The 8th International Conference on X-ray Microscope (XRM2005) 実行委員会

2005 - 第8回 X線結像光学シンポジウム世話人

2003/04 - 2004/03 応用物理学関係連合講演会(春季 / 第50回・第51回) 演奨励賞審査員

2004 - International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC) Program Committee Session Sub-Head

2002 - 2003 International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC) Program Committee Member

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受賞 (6件)：

2023/04 - International Conference of Photopolymer Science and Technology Outstanding Contributions A ward
2022/07 - 研究活動教員表彰最優秀賞
2016/05 - ニュークリアサイエンス協会ニュークリアサイエンス協会賞放射光を利用したレジストの開発に関する研究
2013/06 - International Workshop on EUV Lithography Best Paper Award R&D of EUV Lithography
2008/06 - International Workshop on EUV Lithography Best Poster Award 1st Place EUV interference lithography employing 11-m long undulator as a light source

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所属学会 (11件)：

日本化学会 , 一般社団法人次世代日本半導体製造協会 , 高分子学会 , 日本放射光学会 , 日本応用物理学会 , Society of Photopolymer Science and Technology (SPST) , International Conference on Photomask Japan (PMJ) , Opitical Society of America (OSA) , The International Society for Optics and Photonics (SPIE) , Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE) , 日本物理学会

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渡邊 健夫

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