研究者
J-GLOBAL ID:200901004223661630   更新日: 2020年06月08日

渡邊 健夫

ワタナベ タケオ | Watanabe Takeo
所属機関・部署:
職名: 所長・教授
その他の所属(所属・部署名・職名) (1件):
ホームページURL (1件): http://www.lasti.u-hyogo.ac.jp
研究分野 (2件): 電子デバイス、電子機器 ,  光工学、光量子科学
研究キーワード (2件): 電子デバイス・機器工学 ,  応用光学・量子光工学
競争的資金等の研究課題 (3件):
  • 多層膜反射率測定
  • 放射光による有機高分子材料のガス脱離
  • 極端紫外線リソグラフィに関する研究
論文 (165件):
  • Seiji Takahashi, Hiroko Minami, Yoko Matsumoto, Yoichi Minami, Mikio Kadoi, Atsushi Sekiguchi, Takeo Watanabe. In-Situ Measurement of Outgassing Generated from EUV Metal Oxide Nanoparticles Resist During Electron Irradiation. J. Photopolym. Sci. Technol. 2018. 31. 257-260
  • Hiroto Kudo, Shizuya Ohori, Hiroya Takeda, Hiroki Ogawa, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa. Synthesis and Property of Tannic Acid Derivatives and Their Application for Extreme Ultraviolet Lithography System. J. Photopolym. Sci. Technol. 2018. 31. 221-225
  • Mana Yoshifuji, Shota Niihara, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe. Fabrication of High-Aspect-Ratio Transmission Grating Using DDR Process for 10-nm EUV Resist Evaluation by EUV Interference Lithography. J. Photopolym. Sci. Technol.,. 2018. 31. 215-220
  • Hiroto Kudo, Mari Fukunaga, Kohei Shiotsuki, Hiroya Takeda, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Takeo Watanabe. Synthesis of Hyperbranched Polyacetals containing C-(4-t-butylbenz)calix[4]resorcinarene; Resist Properties for Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography,. Reactive and Functional Polymers. 2018
  • Mamezaki, T. Harada, Y. Nagata, T. Watanabe. Observation of EUVL mask using coherent EUV scatterometry microscope with high-harmonic-generation EUV source. Proc. SPIE. 2017. 10454. 1045413
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MISC (23件):
特許 (30件):
  • 感光性樹脂及び感光性組成物
  • Photosensitive Resin, and Photosensitive Composition
  • 形状測定装置
  • 短波長コヒーレント光源及び透過型の減光機構
  • 感光性樹脂及び感光性組成物
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書籍 (9件):
  • UV硬化技術を使った新製品開発
    株式会社技術情報協会 2017
  • 最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術監修
    (株)シーエムシー出版 2017
  • リソグラフィー技術その40年 ~基礎からMEMS技術、応用開発事例まで~
    株式会社エヌ・ティー・エス 2017
  • 「放射線と産業」第142号 (特集「第16回放射線プロセスシンポジウムの各論として掲載)
    一般財団法人 放射線利用振興協会編 2017
  • フォトポリマー懇話会ニュースレター70号
    2015
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講演・口頭発表等 (363件):
  • ニュースバル放射光施設での産業利用の現状と今後の展開
    (大阪大学産業科学研究所附属量子ビーム科学研究施設,平成30年度施設研究会~量子ビーム科学の進展と新しい応用の広がり~ 2018)
  • Research activity of evaluation tools including soft X-ray optics for the research of EUV lithography at University of Hyogo
    (Physics of X-ray and Neutron Multilayer Structures (PXRNMS2018) 2018)
  • ニュースバル放射光施設での産業利用 ~先端半導体微細加工技術~
    (兵庫県立大学名誉教授会 2018)
  • Rsearch Activities of Extreme Ultraviolet Lithography at University of Hyogo
    (Micro Nano Engineering 2018 2018)
  • Photopolymer Technology for Extreme Ultraviolet Lithography
    (Polymer World Congress 2018 2018)
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Works (3件):
  • EUVリソグラフィの研究
    1999 - 2001
  • X線縮小露光評価技術の研究開発
    1999 - 2001
  • EUVリソグラフィ用レジスト材料の研究開発
    2000 -
学歴 (1件):
  • 1987 - 1990 大阪市立大学 理学研究科後期博士課程 物理学専攻
学位 (1件):
  • 博士(理学) (大阪市立大学)
経歴 (8件):
  • 2016/04 - 現在 兵庫県立大学 所長
  • 2015/04 - 現在 兵庫県立大学 教授
  • 2008/04 - 2014/03 兵庫県立大学 准教授
  • 2007/04 - 2008/03 兵庫県立大学 助教
  • 2004/04 - 2007/03 兵庫県立大学 助手
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委員歴 (10件):
  • 2013/01 - 現在 International Conference on Electron Ion Photon Beam Technology and Nanofabrication Program Committee
  • 2006/04 - 現在 International Conference on Photopolymer Science and Technology Organizing Committee
  • 2005/04 - 現在 International Conference on Photopolymer Science and Technology Program Committee
  • 2004/04 - 現在 International Conference on Photopolymer Science and Technology Session Chair
  • - 現在 フォトポリマー懇話会 運営委員会
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受賞 (4件):
  • 2016/05 - ニュークリアサイエンス協会 ニュークリアサイエンス協会賞 放射光を利用したレジストの開発に関する研究
  • 2013/06 - International Workshop on EUV Lithography Best Paper Award R&D of EUV Lithography
  • 2008/06 - International Workshop on EUV Lithography Best Poster Award 1st Place EUV interference lithography employing 11-m long undulator as a light source
  • 2002/03 - 日本物理学会 第7回日本物理学会論文賞 Direct Observation of Sequential Weak Decay of a Double Hypernucleus
所属学会 (4件):
日本物理学会 ,  日本応用物理学会 ,  SPIE ,  IEEE
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