研究者
J-GLOBAL ID：200901007470074380
更新日: 2003年01月28日
石田 浩一
イシダ コウイチ | Ishida Koichi
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所属機関・部署：
山口県産業技術センター 材料技術部
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職名：
専門研究員
研究キーワード (1件)：
薄膜技術 微細加工技術
MISC (4件)：
フォトリソグラフィーを用いた薄膜インダクタの試作. (電子情報通信学会、総合大会講演論文集、1999年)
パルスプラズマCVD法によるSiN膜の定温合成. (山口県工業技術センター研究報告第7号、1995年)
Modification of a Carbon Electrode Surface by Cold Plasma Treatment for Electric Double Layer Capacitors. (Mat. Res. Soc. Symp. Proc. Vol.496 , Materials Research Society ,655-660,1998)
ECRスパッタ法によるCo-Cr垂直磁気ディスクの作製. (山口県工業技術センター研究報告第11号、1999年)
特許 (2件)：
耐熱性硬質ニッケル-タングステン合金めっき皮膜及びその形成方法
耐熱性ニッケル-タングステン合金めっき皮膜及びその形成方法
所属学会 (4件)：
表面技術協会
, 日本セラミック協会
, 電子情報通信学会
, 応用物理学会
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