研究者
J-GLOBAL ID:200901018787360097   更新日: 2019年11月13日

越川 孝範

コシカワ タカノリ | Koshikawa Takanori
所属機関・部署:
職名: 名誉教授
その他の所属(所属・部署名・職名) (1件):
  • 重慶大学  客員教授
研究分野 (4件): 応用物理一般 ,  ナノバイオサイエンス ,  ナノ材料科学 ,  薄膜、表面界面物性
研究キーワード (30件): ,  水素終端シリコン表面 ,  光電子顕微鏡 ,  水素終端 ,  低エネルギー電子顕微鏡 ,  表面構造 ,  仕事関数 ,  光電子回折 ,  イオン化 ,  ナノ計測 ,  ナノ材料 ,  2次イオン ,  水素介在効果 ,  ナノ表面界面 ,  仕事関数顕微鏡 ,  ナノ構造 ,  表面・界面物性 ,  高輝度電子銃 ,  アルカリ ,  結晶成長 ,  放射光 ,  高分解能深さ方向分析 ,  スパッターリング ,  極微構造 ,  LEEM ,  表面拡散 ,  シリコン(111) ,  シリコン成長 ,  解析・評価 ,  SIMS
学位 (1件):
  • 工学博士 (大阪大学)
経歴 (1件):
  • 大阪電気通信大学 工学部 教授
受賞 (1件):
  • 2011/11 - 材料科学技術振興財団 山崎貞一賞
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