研究者
J-GLOBAL ID:200901021061955254   更新日: 2011年07月15日

品田 賢宏

シナダ タカヒロ | SHINADA Takahiro
所属機関・部署:
職名: 准教授
ホームページURL (1件): http://www.waseda.jp/wias/researches/plofile/plof_t_shinada.html
研究分野 (3件): ナノ材料・ナノバイオサイエンス ,  マイクロ・ナノデバイス ,  電子・電気材料工学
研究キーワード (4件): 電子工学 ,  ナノエレクトロニクス ,  半導体 ,  イオン注入
競争的資金等の研究課題 (2件):
  • 単一イオン注入法による半導体ナノ物性制御
  • 単一イオン注入法による細胞機能修飾
MISC (21件):
書籍 (1件):
  • テクノカレント:半導体テクノロジーのトレンド-微細化から等価的微細化と多様化へ
    世界経済情報サービス 2008 ISBN:1341-0733
講演・口頭発表等 (7件):
  • 集束Auイオンビームによる細胞機能修飾
    (第70回応用物理学会学術講演会 2009)
  • シングルイオン注入法の基板バイアス印加による単一性改善に関する研究
    (第70回応用物理学会学術講演会 2009)
  • 離散的ドーパント位置のデバイス特性に及ぼす影響調査
    (第70回応用物理学会学術講演会 2009)
  • 基板バイアス印加による単一イオン個数制御性の検証
    (第71回応用物理学会学術講演会 2010)
  • ドーパント位置制御による電界効果トランジスタの相互コンダクタンス評価
    (第58回応用物理学関連連合講演会 2011)
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Works (3件):
  • ドーパント規則配列を有する半導体のデバイス特性評価 (Semiconductor Research Corporation)
    2008 -
  • シングルドーパントデバイスの研究 (NTT)
    2009 -
  • シングルイオン注入を用いたトランジスタ特性制御の研究
    2010 -
学歴 (2件):
  • - 1995 早稲田大学 理工学部 電子通信学科
  • - 2000 早稲田大学 理工学研究科 電子・情報通信学専攻
学位 (2件):
  • 博士(工学) (早稲田大学)
  • 技術経営学修士 (早稲田大学)
経歴 (8件):
  • 2001/07 - 2001/09 ドイツ ルール大学 固体物理研究所 客員研究員
  • 2000/04 - 2002/03 早稲田大学 理工学部 助手
  • 2002/04 - 2004/03 日本学術振興会 特別研究員
  • 2004/04 - 2004/06 早稲田大学 ナノテクノロジー研究所 講師
  • 2004/07 - 2006/03 早稲田大学 生命医療工学研究所 講師
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委員歴 (8件):
  • 2010 - 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会接合技術研究会 幹事
  • 2010 - 電子情報技術産業協会(JEITA) 半導体技術ロードマップ委員会(STRJ)
  • ワーキンググループ12 (Emerging Research Devices: ERD) 幹事
  • ワーキンググループ13 (Emerging Research Devices: ERM) 特別委員
  • 2010 - 電子情報技術産業協会(JEITA)ナノエレクトロニクス標準化専門委員会 委員
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受賞 (3件):
  • 2002 - 講演奨励賞,第12回(2002年春季)応用物理学会
  • 2000 - ベストポスター賞,第12回イオン注入技術に関する国際会議,アルプバッハ,オーストリア
  • 1998 - スチューデント・ヤングサイエンティスト賞,第11回イオン注入技術に関する国際会議,京都
所属学会 (2件):
米国電気電子学会 ,  応用物理学会
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