研究者
J-GLOBAL ID:200901022277070164   更新日: 2020年12月25日

長村 利彦

ナガムラ トシヒコ | Nagamura Toshihiko
所属機関・部署:
職名: 名誉教授
その他の所属(所属・部署名・職名) (1件):
ホームページURL (2件): http://w3-chem.kct.ac.jp/kyokan/nagamura/English/index.htmlhttp://w3-chem.kct.ac.jp/kyokan/nagamura/top.htm
研究分野 (10件): 光工学、光量子科学 ,  高分子材料 ,  電子デバイス、電子機器 ,  機能物性化学 ,  高分子化学 ,  基礎物理化学 ,  ナノマイクロシステム ,  ナノ材料科学 ,  ナノ構造物理 ,  ナノ構造化学
研究キーワード (12件): 表面プラズモン共鳴 ,  導波モード ,  超高速光応答 ,  化学センシング ,  エバネッセント光 ,  光化学 ,  光物性 ,  高分子材料 ,  PHOTONICS ,  PHOTOPHYSICS ,  PHOTOCHEMISTRY ,  POLYMER CHEMISTRY & PHYSICS
競争的資金等の研究課題 (14件):
  • 2003 - 先端高分子材料の合成、構造、物性、応用
  • 2003 - SYNTHESIS, STRUCTURES, PHYSICAL PROPERTIES, AND APPLICATIONS OF ADVANCED POLYMERS
  • 分子・ナノ材料のフェムト〜ピコ〜ナノ秒レーザーによる光応答計測と応用
  • 導波モードや表面プラズモン共鳴励起蛍光による高感度・高速応答センシング
  • 超高密度・超高速フォトニック分子メモリ
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論文 (3件):
MISC (314件):
特許 (25件):
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書籍 (24件):
  • 光化学 基礎から応用まで
    講談社 2014 ISBN:9784061568037
  • 光化学の事典
    朝倉書店 2014 ISBN:9784254140965
  • 最新フォトニクスポリマー材料と応用技術
    シーエムシー出版 2011
  • 化学者のための光科学
    講談社 2011 ISBN:9784061543676
  • エバネッセント光による高性能センシング
    「光科学研究の最前線2」、強光子場科学研究懇談会編、180 2009
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Works (6件):
  • ナノフォトニクス分子システムの構成と超高速光応答
    1998 - 2000
  • Molecular assemblies for ultrafast nanophotonics
    1998 - 2000
  • 高度な分子組織系の超高速光応答
    1996 - 1997
  • Ultrafast photoresponses of organized molecular assemblies
    1996 - 1997
  • 高密度光記録材料
    1991 -
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学位 (2件):
  • 工学博士 (九州大学)
  • 工学修士 (九州大学)
経歴 (24件):
  • 2011/04 - 現在 北九州工業高等専門学校 特命教授
  • 2010/04 - 現在 静岡大学 電子工学研究所 客員教授
  • 2010/04 - 2011/03 九州大学産学連携センター 特任教授
  • 2011 - : Distinguished Professor at Kitakyushu National College of Technology
  • 2003/05 - 2010/03 九州大学大学院工学研究院 教授
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委員歴 (4件):
  • 2006 - 2008 高分子学会 支部長、理事
  • 2007 - 日本化学会 支部長
  • 2004 - 有機デバイス研究会 会長
  • 1998 - 1999 光化学協会 理事
受賞 (5件):
  • 2012/09 - 光化学協会 光化学協会功績賞 光誘起電子移動反応の研究と分子フォトニクスへの展開
  • 2010/05 - 高分子学会 高分子科学功績賞 フォトニクス高分子の機能発現と応用に関する研究
  • 2006/06 - メルボルン大学 Wilsmore Fellow Award Development of Advanced Polymers and their Photonic Applications
  • 2005/05 - 高分子学会 高分子学会賞 高分子電子状態の光制御と分子フォトニクス
  • 1995/05 - 知恩会 齋藤賞 超分子材料による光誘起電子移動反応と光記録に関する研究
所属学会 (4件):
高分子学会 ,  光化学協会 ,  有機デバイス研究会 ,  日本化学会
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