研究者
J-GLOBAL ID：200901023699306655
更新日: 2024年10月03日
斉木 幸一朗
サイキ コウイチロウ | Saiki Koichiro
所属機関・部署：
研究分野 (4件)：
薄膜、表面界面物性
, 結晶工学
, 応用物性
, 半導体、光物性、原子物理
研究キーワード (7件)：
エピタキシャル成長
, ヘテロ界面
, 有機薄膜
, グラフェン
, 電子分光
, STM
, 有機トランジスタ
競争的資金等の研究課題 (24件)：
- 2013 - 2018 グラフェン関連原子層の新規合成法および大面積合成法の開発
- 2015 - 2017 黒体輻射を利用したCVD成長その場観察法の開発
- 2009 - 2011 金属-有機半導体界面の物理的・化学的制御による有機デバイス特性向上に関する研究
- 2007 - 2008 電子状態・表面形態と電気特性のその場同時計測による有機トランジスタ動作機構の解明
- 2007 - 2008 炭素系特異磁性の発現とその起源
- 2002 - 2006 高度界面制御有機・無機複合構造による量子物性の発現と応用
- 2004 - 2005 単一ドメイン有機薄膜の電界効果電気伝導度測定
- 2002 - 2002 負の電子親和力表面の設計と電子放出過程の研究
- 1999 - 2000 フラーレンおよびその化合物のヘテロ構造化による新物性の探求
- 1998 - 1999 多様物質系ヘテロ構造の作製手法の確立と物性探索
- 1997 - 1998 イオン結晶-半導体ヘテロ構造による新機能表面の作製と物性
- 1995 - 1996 半導体表面における水素の生態とダイナミクス
- 1995 - 1996 I-VII族化合物のヘテロ成長とその物性の研究
- 1995 - 1995 ファンデアワールス・エピタキシ-法によるフラーレン超薄膜の作製とその物性の解明
- 1994 - 1994 原子モアレ変調構造の走査トンネル分光
- 1993 - 1993 原子モアレ変調構造の走査トンネル分光
- 1990 - 1992 ファンデルワールス種属人工物質における新物性の探索とその応用に関する研究
- 1988 - 1990 ファンデルワ-ルス界面を利用した単結晶超薄膜の作成とその精密物性の解明
- 1989 - 1989 ファンデルワ-ルス・エピタキシ-法による人工準結晶の作成とその物性の解明
- 1989 - 1989 層状物質を用いた生層-半導体ヘテロ構造の作成とその特性の解明
- 1988 - 1988 フアン・デルワールスエピタキシー法による人工準結晶の作成とその物性の解明
- 1988 - 1988 金属単結晶超薄膜に於る量子サイズ効果の研究
- 1987 - 1987 電子分光法による無機レジスト材料の研究
- 1982 - 1982 酵素イオンをプローブとした固体表面電子遷移過程の研究
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論文 (263件)：
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Kenta Hiratochi, Daisuke Terada, Hiroshi Suga, Mitsuhiro Okada, Kyoko K Bando, Tetsuya Kodaira, Takatoshi Yamada, Tetsuo Shimizu, Koichiro Saiki, Toshitaka Kubo. Graphene-based crown-cork-like macrostructures. Materials Chemistry Frontiers. 2024
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Kazuhiko Seki, Koichiro Saiki. Transition from Reaction- to Diffusion-Limited Growth of Graphene by Chemical Vapor Deposition. CRYSTAL GROWTH & DESIGN. 2022. 22. 4396-4403
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斉木 幸一朗. 歴史は繰り返す -新たな研究のステージへ. 表面と真空. 2022. 65. 4. 167-167
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Keishi Akada, Seiji Obata, Koichiro Saiki. Radio-frequency plasma assisted reduction and nitrogen doping of graphene oxide. CARBON. 2022. 189. 571-578
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Gaku Imamura, Kosuke Minami, Kota Shiba, Kissan Mistry, Kevin P. Musselman, Mustafa Yavuz, Genki Yoshikawa, Koichiro Saiki, Seiji Obata. Graphene Oxide as a Sensing Material for Gas Detection Based on Nanomechanical Sensors in the Static Mode. CHEMOSENSORS. 2020. 8. 3. 82
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MISC (35件)：
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斉木 幸一朗. History Repeats Itself. 東京大学大学院新領域創成科学研究科広報誌「創成」. 2017. 29. 20-20
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斉木幸一朗. 化学合成グラフェンへの窒素ドーピング. 応用物理学会応用電子物性分科会研究例会「グラフェンの基礎物性とデバイス応用の新展開」(テキスト). 2013
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斉木 幸一朗. プラズマCVDによるグラフェンへの窒素ドーピング. 電気学会研究会. PST, プラズマ研究会(テキスト). 2012. 2012. 107. 55-58
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斉木 幸一朗. グラフェンの化学的合成とヘテロ原子ドーピング. 大阪工研特別セミナー「新しい炭素材料グラフェン」(テキスト). 2012
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斉木幸一朗. 化学気相成長法によるグラフェンへのヘテロ原子ドーピング. 第32回表面科学学術講演会(講演資料). 2012
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書籍 (24件)：
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遷移金属ダイカルコゲナイドの基礎と最新動向
シーエムシー出版 2023 ISBN:9784781317588
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グラフェンから広がる二次元物質の新技術と応用
エヌ・ティー・エス出版 2020 ISBN:9784860436636
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二次元物質の科学 グラフェンなどの分子シートが生み出す新世界
化学同人 2017 ISBN:9784759813852
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Inorganic Nanosheets and Nanosheet-Based Materials
Springer 2017 ISBN:9784431564942
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カーボンナノチューブ・グラフェン研究の応用最前線
エヌ・ティー・エス出版 2016 ISBN:9784860434564
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講演・口頭発表等 (706件)：
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化学気相成長法を用いたグラフェン鉄コンポジット材料の作製
(日本金属学会講演大会 2022)
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酸化グラフェンのプラズマ処理 -還元とドーピング-
(第17回酸化グラフェン学会 2022)
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酸化グラフェンを感応膜とした膜型表面応力センサ(MSS)のガス応答特性
(応用物理学会学術講演会講演予稿集 2019)
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18a-E308-9 酸化グラフェンの再グラフェン化における炭素添加効果
(応用物理学会学術講演会講演予稿集 2019)
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10aK36-8 Au(100)およびAu(111)上グラフェンの角度分解光電子分光
(日本物理学会講演概要集 2019)
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学歴 (6件)：
学位 (3件)：
- 工学博士 (東京大学)
- 工学修士 (東京大学)
- 工学士 (東京大学)
経歴 (10件)：
- 2019/06 - 現在 東京大学
- 2019/04 - 2023/03 産業技術総合研究所 客員研究員(招聘)
- 1999/04 - 2019/03 東京大学 大学院新領域創成科学研究科複雑理工学専攻 教授
- 2002/04 - 2003/03 東北大学 学際科学研究センター 教授 (併任)
- 1993/04 - 1999/03 東京大学 大学院理学系研究科化学専攻 助教授
- 1993/09 - 1994/07 Kernforschungszentrum Karlsruhe 客員研究員 (文部省在外研究員)
- 1991/04 - 1993/03 東京大学 理学部化学科 助教授
- 1989/02 - 1991/03 東京大学 理学部化学科 専任講師
- 1986/05 - 1989/01 東京大学 理学部化学科 助手
- 1981/05 - 1986/04 東京大学 工学部 物理工学科 助手
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所属学会 (4件)：
Materials research society
, 日本化学会
, 応用物理学会
, 日本物理学会
