研究者
J-GLOBAL ID：200901024647947586   更新日: 2004年12月08日

星川 潔

ホシカワ キヨシ | Hoshikawa Kiyoshi
所属機関・部署：
神奈川県産業技術センター 電子技術部

神奈川県産業技術センター 電子技術部 について


職名： 技師
研究キーワード (2件)： 薄膜の作製技術 ,  thin film forming technology
競争的資金等の研究課題 (2件)：
  • 薄膜の作製及びデバイスの開発、X線による応力計測に関する研究
  • Thin film formation and device development Study on measurement of stress by X ray
学位 (1件)：
  • 工学修士
所属学会 (1件)：
日本機械学会
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