研究者
J-GLOBAL ID：200901028199093231   更新日: 2024年02月14日

中島 寛

ナカシマ ヒロシ | Nakashima Hiroshi
所属機関・部署：
佐世保工業高等専門学校

佐世保工業高等専門学校 について


ホームページURL (1件)： http://astec.kyushu-u.ac.jp/nakasima/naka-home.htm
研究分野 (4件)： 電子デバイス、電子機器 ,  電気電子材料工学 ,  結晶工学 ,  応用物性
研究キーワード (6件)： 機能性薄膜形成 ,  半導体中の格子欠陥 ,  半導体プロセス技術 ,  Functional thin film ,  defects in semiconductors ,  Semiconductor process technology
競争的資金等の研究課題 (10件)：
  • 次世代LSI用高誘電率ゲート絶縁膜の開発
  • SOIウェーハ中の欠陥評価と制御
  • SOIウェーハ中の欠陥評価と制御
  • シリコン中の欠陥評価と制御
  • LSI用機能性薄膜の低温形成とデバイス応用
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MISC (104件)：
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特許 (6件)：
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Works (9件)：
  • シリコン中の格子欠陥評価と制御
    2003 - 2004
  • 次世代LSI用高誘電率ゲート絶縁膜の低温形成
    2001 - 2003
  • 高速LSI用歪SOIウェーハの研究開発
    2001 -
  • Research and development of strained SOI water for high-speed LSI
    2001 -
  • シリコン系支持膜に関する研究
    1999 - 2000
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学歴 (4件)：
  • - 1983 九州大学 工学研究科 電気工学
  • - 1983 九州大学
  • - 1978 九州大学 工学部 電気工学
  • - 1978 九州大学
学位 (2件)：
  • 工学博士 (九州大学)
  • 工学修士 (九州大学)
経歴 (10件)：
  • 2003/10 - - 九州大学産学連携センター(名称換) 教授
  • 2003/10 - - Kyushu Univ. Art, Sci. and Tech. Center for
  • 1999 - 2003 九州大学先端科学技術共同研究センター 教授
  • 1999 - 2003 Kyushu Univ. Advanced Sci. and Tech. Center for
  • 1994 - 1999 九州大学先端科学技術共同研究センター 助教授
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委員歴 (1件)：
  • 1997 - 応用物理学会九州支部 理事
所属学会 (3件)：
応用物理学会九州支部 ,  電子情報通信学会 ,  応用物理学会
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