研究者
J-GLOBAL ID:200901029340771490
更新日: 2022年08月31日
木下 治久
キノシタ ハルヒサ | KINOSHITA Haruhisa
この研究者にコンタクトする
直接研究者へメールで問い合わせることができます。
所属機関・部署:
静岡大学 工学部 - 電気電子工学科
静岡大学 工学部 - 電気電子工学科 について
「静岡大学 工学部 - 電気電子工学科」ですべてを検索
機関情報を見る
その他の所属(所属・部署名・職名) (1件):
静岡大学
大学院総合科学技術研究科工学専攻 - 電気電子工学コース
ホームページURL (1件):
http://splasma.elac.jp/
研究分野 (1件):
電気電子材料工学
研究キーワード (4件):
太陽電池
, フィールドエミッタ
, 水素化アモルファス窒化炭素膜
, スーパーマグネトロンプラズマ
競争的資金等の研究課題 (6件):
導電性ダイヤモンド状炭素膜を用いたフィールドエミッタ製作
スーパーマグネトロンプラズマを用いた導電性ダイヤモンド状炭素膜の合成
スーパーマグネトロンプラズマを用いたレジストの微細エッチング
Fabrication of Field Emitter Using Electrical Conduction Diamond-Like Carbon Films
Synthesis of Electrical Conductive Diamond-Like Carbon Films Using Supermagnetron Plasma
Fine Pattern Etching of Resist Using Supermagnetron Plasma
全件表示
MISC (160件):
H Kinoshita, T Hando, M Yoshida. Preparation of electrically conductive diamond-like carbon films using i-C4H10/N-2 supermagnetron plasma. JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2001. 89. 5. 2737-2741
H Kinoshita, T Hando, M Yoshida. Preparation of electrically conductive diamond-like carbon films using i-C4H10/N-2 supermagnetron plasma. JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2001. 89. 5. 2737-2741
Formation of SiO2 Films by TEOS/O2 Supermagnetron Plasma CVD. Proceedings of Plasma Science Symposium. 2001. 1. 445-446
Formation of SiO2 Films by TEOS/O2 Supermagnetron Plasma CVD. Proceedings of Plasma Science Symposium. 2001. 1. 445-446
H Kinoshita, F Fukushima, M Kando, Y Nakagawa, T Tsukada. Probe diagnostics of supermagnetron plasma with applications of continuous and pulse-modulated rf electric fields. JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2000. 88. 5. 2263-2267
もっと見る
書籍 (11件):
Applied Process Technology of High-Density Plasma
Realize Inc. 1993
高密度プラズマ応用プロセス技術(共著)
(株)リアライズ社 1993
Applied Process Technology of High-Density Plasma
Realize Inc. 1993
プラズマ材料科学ハンドブック(共著)
(株)オーム社 1992
実用ドライエッチング技術(共著)
(株)リアライズ社 1992
もっと見る
講演・口頭発表等 (13件):
Al膜上に堆積したSiO2/a-CNx:H多層膜からの電界電子放出
(第62回応用物理学会春季学術講演会 2016)
電界放出用a-CNx:H/Al多層膜のスーパーマグネトロンプラズマCVD
(第76回応用物理学会学術講演会 2015)
スーパーマグネトロンプラズマによる電界放出用2層a-CNx:H膜の作製
(第61回応用物理学会春季学術講演会 2014)
スーパーマグネトロンプラズマによる電界放出用a-CNx:H 膜の作製
(電気関係学会東海支部連合大会 2013)
Chemical Vapor Deposition of a-CNx:H Films for Electron Field Emission using Band Supermagnetron Plasma
(The 26th Sypmosium on Plasma Science for Materials 2013)
もっと見る
学歴 (4件):
- 1982 静岡大学 電子科学研究科 電子材料科学
- 1982 静岡大学
- 1976 名古屋大学 理学部 物理学
- 1976 名古屋大学
学位 (1件):
工学博士 (静岡大学)
経歴 (1件):
静岡大学 工学部 - 電気電子工学科 准教授
所属学会 (1件):
応用物理学会
※ J-GLOBALの研究者情報は、
researchmap
の登録情報に基づき表示しています。 登録・更新については、
こちら
をご覧ください。
前のページに戻る
TOP
BOTTOM