研究者

J-GLOBAL ID：200901032847091743 更新日: 2020年09月28日

牟田浩司

ムタヒロシ | Muta Hiroshi

所属機関・部署：
職名：教授

研究分野 (1件)：プラズマ応用科学

研究キーワード (6件)：超高速DLC成膜 , VHFプラズマ , 電磁界シミュレーション , 薄膜シリコン太陽電池 , ECRプラズマ , プラズマCVD

競争的資金等の研究課題 (5件)：

2013 - 2016 超音速噴流を用いたVHFプラズマによる高速大面積微結晶シリコン製膜法の開発
2008 - 2011 狭ギャップ高圧VHFプラズマを用いた微結晶シリコン薄膜作製
2007 - 2010 中性粒子風と渦の極性反転
2002 - 2003 低温プラズマ表面修飾技術による酸化チタン微粒子の環境浄化機能の改善に関する研究
1998 - 2000 ECRプラズマ中の電子速度分布関数と成膜の再現性に関する研究

論文 (18件)：

西田哲, 牟田浩司, 栗林志頭眞. 高速噴流を利用したプラズマCVDの新規高速製膜手法. ながれ(日本流体力学会誌). 2015. 34. 15-20
Tsukasa Yamane, Shinya Nakano, Sachiko Nakao, Yoshiaki Takeuchi, Ryuta Ichiki, Hiroshi Muta, Kiichiro Uchino, Yoshinobu Kawai. Estimation of negative ions in VHF SiH4/H-2 plasma. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2014. 53. 11. 116101-1-116101-4
Satoshi Nishida, Hiroshi Muta, Shizuma Kuribayashi. Effect of Gas Flow Rate on the High-Rate, Localized Jet-Deposition of Silicon in SiH4/H-2 PE-CVD. JOURNAL OF CHEMICAL ENGINEERING OF JAPAN. 2014. 47. 6. 478-482
T. Yamane, S. Nakao, Y. Takeuchi, H. Muta, R. Ichiki, K. Uchino, Y. Kawai. Measurements of SiH4/H-2 VHF Plasma Parameters with Heated Langmuir Probe. CONTRIBUTIONS TO PLASMA PHYSICS. 2013. 53. 8. 588-591
Tsukasa Yamane, Sachiko Nakao, Yoshiaki Takeuchi, Yasuhiro Yamauchi, Hiromu Takatsuka, Hiroshi Muta, Kiichiro Uchino, Yoshinobu Kawai. VHF SiH4/H-2 plasma characteristics with negative ions. SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY. 2013. 228. S433-S436

もっと見る

MISC (20件)：

もっと見る

書籍 (1件)：

プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例
サイエンス&テクノロジー 2018

学位 (1件)：

博士(工学) (九州大学)

経歴 (1件)：

2015/04 - 現在近畿大学産業理工学部電気電子工学科教授

委員歴 (1件)：

2002 - プラズマ・核融合学会広報委員

受賞 (1件)：

1986 - 電気関係学会九州支部連合大会発表賞

所属学会 (3件)：

電気学会 , プラズマ・核融合学会 , 応用物理学会

※　J-GLOBALの研究者情報は、researchmapの登録情報に基づき表示しています。登録・更新については、こちらをご覧ください。

前のページに戻る

TOP