牟田浩司

ムタヒロシ | Muta Hiroshi

所属機関・部署：
職名：教授
競争的資金等の研究課題 (5件)：

論文 (68件)：

Hiroshi Muta, Hiroyuki Taguchi, Teppei Yamanishi, Go Hirano, Satoshi Nishida. Characteristics of very high-frequency plasma with an underexpanded supersonic gas jet. Vacuum. 2023. 217. 112530-1-112530-7
西田哲, 納土亮, 牟田浩司, 栗林志頭眞. 非平衡プラズマジェットCVD法によるシリコン製膜時に装置内圧力が製膜速度,膜質におよぼす影響. 化学工業論文集. 2015. 41. 2. 148-152
西田哲, 牟田浩司, 栗林志頭眞. 高速噴流を利用したプラズマCVDの新規高速製膜手法. ながれ(日本流体力学会誌). 2015. 34. 1. 15-20
Tsukasa Yamane, Shinya Nakano, Sachiko Nakao, Yoshiaki Takeuchi, Ryuta Ichiki, Hiroshi Muta, Kiichiro Uchino, Yoshinobu Kawai. Estimation of negative ions in VHF SiH4/H-2 plasma. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2014. 53. 11. 116101-1-116101-4
Satoshi Nishida, Hiroshi Muta, Shizuma Kuribayashi. Effect of gas flow rate on the high-rate, localized jet-deposition of silicon in SiH4/H-2 PE-CVD. JOURNAL OF CHEMICAL ENGINEERING OF JAPAN. 2014. 47. 6. 478-482

MISC (7件)：

納土亮, 松永卓真, 井関将仁, 牟田浩司, 西田哲, 栗林志頭眞. B132 非平衡プラズマジェットCVDに於けるSi結晶化度制御法の実験的研究(一般講演(3)). 熱工学コンファレンス講演論文集. 2013. 2013. 57-58
松岡一樹, 岡本直樹, 安藤大輔, 中村次郎, 西田哲, 牟田浩司, 栗林志頭眞. G212 非平衡プラズマCVDに於けるガス流速がSi成膜速度に及ぼす影響の解析(OS-17: プラズマ革新技術の展開(1)). 熱工学コンファレンス講演論文集. 2012. 2012. 435-436
安藤大輔, 中村次郎, 恒川佳寛, 西田哲, 牟田浩司, 栗林志頭眞, 竹内良昭, 山内康弘, 高塚汎. 超音速不足噴流を用いた非平衡プラズマCVDによるα/μc-Si:H膜成長. 電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会. 2010. 2010. 48. 5-10
水野健太, 松岡正典, 牟田浩司, 西田哲, 栗林志頭眞, 竹内良昭, 山内康弘, 高塚汎. バラン給電法によるVHFプラズマの特性. 電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会. 2010. 2010. 48. 29-32
牟田浩司, 古賀麻由子, 河合良信. 29pA06P Ar/N_2ECRプラズマ中のイオン温度特性解析(プラズマ基礎・応用). プラズマ・核融合学会年会予稿集. 2002. 19. 205-205

書籍 (1件)：

学位 (1件)：

経歴 (1件)：

委員歴 (1件)：

受賞 (1件)：

所属学会 (3件)：

電気学会 , プラズマ・核融合学会 , 応用物理学会

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