研究者
J-GLOBAL ID:200901035524275348   更新日: 2020年08月29日

嶋田 志郎

シマダ シロウ | Shimada Shiro
所属機関・部署:
職名: 教授
研究分野 (2件): 無機材料、物性 ,  無機・錯体化学
競争的資金等の研究課題 (7件):
  • 2002 - 炭素熱還元窒化法によるGaNの薄膜・結晶合成
  • 1998 - 熱プラズマCVD法による窒化物複合薄膜の作製とその特性
  • 1990 - 炭化物・窒化物の水蒸気下での腐食反応
  • 高温複合材料の作製と酸化特性
  • Fabrication of complex nitridefilms and Their properties
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MISC (73件):
書籍 (1件):
  • Flux growth and characterization of MeC(Me=Ti,Nb,Ta) Crystals
    Current Topics in Crystal Growth Res. 1995
Works (2件):
  • 炭素熱還元窒化法によるGaN結晶の育成
    2004 -
  • 熱プラズマCVD法によるTiN-基複合膜の作製と耐磨耗性
    2002 -
学位 (1件):
  • 工学博士
委員歴 (2件):
  • 日本熱測定学会 庶務委員
  • 日本セラミックス協会 評議員
受賞 (1件):
  • 1995 - セラモグラフィック賞学術部門
所属学会 (4件):
American Ceramic Society ,  日本熱測定学会 ,  日本セラミックス協会 ,  日本化学会
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