研究者
J-GLOBAL ID:200901037580560287
更新日: 2008年07月30日
黒澤 宏
クロサワ コウ | Kurosawa Kou
所属機関・部署:
独立行政法人科学技術振興機構 サテライト宮崎
独立行政法人科学技術振興機構 サテライト宮崎 について
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職名:
館長
研究分野 (3件):
電子デバイス、電子機器
, 電気電子材料工学
, 半導体、光物性、原子物理
研究キーワード (6件):
表面光反応
, 石英ガラス
, 薄膜
, Surface photo chemistry
, silica glass
, Thin film
競争的資金等の研究課題 (10件):
光ナノ加工
薄膜コーティング技術
超短パルスレーザーを用いた超微細加工
石英ガラスの光デバイス応用
真空紫外光を用いた薄膜製作
Nano-processing with light
Thin film coating technology
Nano-scale processing with ultra-short pulse lasers
Photonic applications of silica glass
Thin film preparation with vacuum ultraviolet light
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MISC (2件):
Identification of defects associated with second-ovder optical nonlinearits in thermally poled high-purits silica glasses(共著). Journal of Applied Physics. 2001. 89. 9. 4707-4713
GeO
2
and SiO
2
thin film preparation with CVD using ultraviolet excimer lamps. Journal de Physique. 2001. 11. Pr3. 739
特許 (3件):
半導体製造装置
膜の形成方法及びその方法を実施するためのCVD装置
真空紫外光を用いた常圧CVD装置の製造方法
書籍 (2件):
レーザー基礎の基礎
オプトロニクス社 1996
Understanding Fundamental Lasers
Optronics Co. 1996
Works (6件):
真空紫外光によるプラスチックの表面処理
2001 -
Surface modification of plastics with vacuum ultraviolet radiation
2001 -
フェムト秒レーザーによる材料加工
2000 -
Material processing with fs Laser pulses
2000 -
真空紫外光CVDによるSiO<sub>2</sub>薄膜製作
1998 -
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学位 (1件):
工学博士 (大阪府立大学)
委員歴 (1件):
2001 - レーザー学会 評議員
受賞 (1件):
1985 - レーザー学会業績賞
所属学会 (4件):
米国材料学会
, 米国光学会
, レーザー学会
, 応用物理学会
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