研究者
J-GLOBAL ID:200901037580560287   更新日: 2008年07月30日

黒澤 宏

クロサワ コウ | Kurosawa Kou
所属機関・部署:
職名: 館長
研究分野 (3件): 電子デバイス、電子機器 ,  電気電子材料工学 ,  半導体、光物性、原子物理
研究キーワード (6件): 表面光反応 ,  石英ガラス ,  薄膜 ,  Surface photo chemistry ,  silica glass ,  Thin film
競争的資金等の研究課題 (10件):
  • 光ナノ加工
  • 薄膜コーティング技術
  • 超短パルスレーザーを用いた超微細加工
  • 石英ガラスの光デバイス応用
  • 真空紫外光を用いた薄膜製作
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MISC (2件):
特許 (3件):
  • 半導体製造装置
  • 膜の形成方法及びその方法を実施するためのCVD装置
  • 真空紫外光を用いた常圧CVD装置の製造方法
書籍 (2件):
  • レーザー基礎の基礎
    オプトロニクス社 1996
  • Understanding Fundamental Lasers
    Optronics Co. 1996
Works (6件):
  • 真空紫外光によるプラスチックの表面処理
    2001 -
  • Surface modification of plastics with vacuum ultraviolet radiation
    2001 -
  • フェムト秒レーザーによる材料加工
    2000 -
  • Material processing with fs Laser pulses
    2000 -
  • 真空紫外光CVDによるSiO<sub>2</sub>薄膜製作
    1998 -
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学位 (1件):
  • 工学博士 (大阪府立大学)
委員歴 (1件):
  • 2001 - レーザー学会 評議員
受賞 (1件):
  • 1985 - レーザー学会業績賞
所属学会 (4件):
米国材料学会 ,  米国光学会 ,  レーザー学会 ,  応用物理学会
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