研究者
J-GLOBAL ID：200901039915644009   更新日: 2024年10月16日

有馬 健太

アリマ ケンタ | Arima Kenta
所属機関・部署：
大阪大学 大学院工学研究科 物理学系専攻 精密工学コース ナノ表面界面工学領域

大阪大学 大学院工学研究科 物理学系専攻 精密工学コース ナノ表面界面工学領域 について


職名： 教授
ホームページURL (2件)： http://www-sie.prec.eng.osaka-u.ac.jp/ ,  http://www-sie.prec.eng.osaka-u.ac.jp/index_E.html
研究分野 (3件)： 材料加工、組織制御 ,  加工学、生産工学 ,  薄膜、表面界面物性
研究キーワード (3件)： 生産工学・加工学 ,  半導体プロセス ,  表面科学
競争的資金等の研究課題 (63件)：
  • 2022 - 2026 Si結晶層を原子層単位で成型・剥離できる自律型ウェットナノ加工の高度化と展開
  • 2021 - 2026 プラズマナノ製造プロセスによる完全無歪加工の実現とその学理の探究
  • 2022 - 2026 基盤研究(A)
  • 2021 - 2024 ナノカーボンが持つ腐食作用を逆手に取った異方的ナノ化学リソグラフィーへの挑戦
  • 2021 - 2024 挑戦的研究(萌芽)
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論文 (133件)：
  • Junhuan Li, Seiya Yamamoto, Kouji Inagaki, Kenta Arima. Nanocarbon-assisted chemical etching of Ge(100) in H2O2. ELECTROCHEMISTRY COMMUNICATIONS. 2024. 163. 107735-1-107735-5
  • Junhuan Li, Kouji Inagaki, Kenta Arima. First-principles simulations of scanning tunneling microscopy images exhibiting anomalous dot patterns on armchair-edged graphene nanoribbons. PHYSICAL REVIEW RESEARCH. 2024. 6. 1. 013252-1-013252-9
  • Nian Liu, Kentaro Sugimoto, Naoya Yoshitaka, Hideaki Yamada, Rongyan Sun, Kenta Arima, Kazuya Yamamura. Highly efficient finishing of large-sized single crystal diamond substrates by combining nanosecond pulsed laser trimming and plasma-assisted polishing. Ceramics International. 2023. 49. 11. 19109-19123
  • Yuki Miyata, Yasunori Nakamukai, Cassia Tiemi Azevedo, Ayano Tsuchida, Miho Morita, Yasushi Oshikane, Junichi Uchikoshi, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Mizuho Morita. Electroluminescence in metal-oxide-semiconductor tunnel diodes with a crystalline silicon/silicon dioxide quantum well. Micro and Nanostructures. 2022. 166. 207228-207228
  • Ayumi Ogasawara, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura, Kenta Arima. Nanocarbon-Induced Etching Property of Semiconductor Surfaces: Testing Nanocarbon’s Catalytic Activity for Oxygen Reduction Reaction at a Single-Sheet Level. ECS JOURNAL OF SOLID STATE SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2022. 11. 4. 041001-1-041001-5
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MISC (94件)：
  • Kenta Arima, Junhuan Li, Shiika Murase, Kouji Inagaki. Selective Wet Etching of Semiconductor Materials by Novel Catalyst-assisted Modes. ECS Transactions. 2024. 114. 1. 17-26
  • 有馬健太. 大阪大学大学院工学研究科 ナノ表面界面工学領域の紹介. 応用物理学会 薄膜・表面物理分科会 News Letter. 2024. 187. 2-6
  • 有馬健太. 超精密な表面計測が拓く次世代ものづくり:ナノ表面界面工学の世界. TECHNO NET. 2023. 601. 4-5
  • 有馬健太. ナノ表面界面工学領域の始動にあたって. 生産と技術. 2023. 75. 3. 34-36
  • 陶通, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也. プラズマ援用研磨法の開発(第25報)-RS-SiC材のSiC成分とSi成分の酸化レートの評価-. 精密工学会大会学術講演会講演論文集. 2022. 2022
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書籍 (7件)：
  • 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術
    (株)技術情報協会 2023 ISBN:9784861049828
  • 半導体製造プロセスを支える洗浄・クリーン化・汚染制御技術
    サイエンス&テクノロジー(株) 2022 ISBN:9784864282949
  • 半導体製造におけるウェット/ドライエッチング技術
    (株)R&D支援センター 2022 ISBN:9784905507611
  • 2020版 薄膜作製応用ハンドブック
    (株)エヌ・ティー・エス 2020 ISBN:9784860436315
  • 超精密加工と表面科学 : 原子レベルの生産技術
    大阪大学出版会 2014 ISBN:9784872594652
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学歴 (3件)：
  • 1997 - 2000 大阪大学 大学院 工学研究科 精密科学専攻 博士後期課程
  • 1995 - 1997 大阪大学 大学院 工学研究科 精密科学専攻 博士前期課程
  • 1991 - 1995 大阪大学 工学部 精密工学科
学位 (2件)：
  • 博士(工学) (大阪大学)
  • Doctor of Engineering (Osaka University)
経歴 (6件)：
  • 2023/04 - 現在 大阪大学 大学院 工学研究科 物理学系専攻 教授
  • 2009/04 - 2023/03 大阪大学 大学院 工学研究科 准教授
  • 2007/04 - 2009/03 大阪大学 大学院 工学研究科 助教
  • 2007/11 - 2008/10 米国ローレンスバークレー国立研究所 客員研究員
  • 2000/04 - 2007/03 大阪大学 大学院 工学研究科 助手
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委員歴 (13件)：
  • 2024/04 - 現在 応用物理学会 薄膜・表面物理分科会 常任幹事
  • 2022/01 - 現在 応用物理学会 界面ナノ電子化学研究会 副委員長
  • 2018/07 - 現在 精密工学会 関西支部 幹事
  • 2010/04 - 現在 精密工学会 超精密加工専門委員会 幹事
  • 2019/01 - 2021/12 応用物理学会 界面ナノ電子化学研究会 コアメンバー
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受賞 (26件)：
  • 2024/05 - ACSIN-15 (15th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures) Best Poster Award
  • 2023/11 - 精密工学会 2024年度秋季大会 ベストプレゼンテーション賞
  • 2023/06 - 精密工学会 2023年度春季大会 ベストプレゼンテーション賞
  • 2022/09 - 応用物理学会 界面ナノ電子化学研究会(第7回ポスター発表展) 優秀講演賞
  • 2021/12 - 精密工学会 2021年度秋季大会 ベストプレゼンテーション賞
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所属学会 (5件)：
The Electrochemical Society ,  Materials Research Society ,  日本表面真空学会 ,  応用物理学会 ,  精密工学会
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