研究者
J-GLOBAL ID:200901044560247333   更新日: 2020年08月29日

中村 初夫

ナカムラ ハツオ | Nakamura Hatsuo
所属機関・部署:
職名: 教授
研究分野 (4件): 薄膜、表面界面物性 ,  結晶工学 ,  応用物性 ,  半導体、光物性、原子物理
研究キーワード (4件): 半導体 ,  X線スペクトル ,  Semiconductor ,  X-ray spectra
競争的資金等の研究課題 (2件):
  • 1986 - シリコン基板上の金属・シリサイドの軟X線分光
  • 1986 - Soft X-ray spectroscopy for metal and/or silicides on Si substrates
MISC (83件):
学歴 (2件):
  • - 1967 大阪市立大学 応用物理
  • - 1967 大阪市立大学
学位 (1件):
  • 工学博士 (大阪府立大学)
経歴 (6件):
  • 1990 - - 大阪電気通信大学工学部 教授
  • 1990 - - Professor of Osaka-Electro-Communication
  • 1985 - 1986 アメリカ合衆国 Stanford大学 客員研究員
  • 1985 - 1986 Visiting Researcher, Electrical Engineering,
  • University
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所属学会 (3件):
日本表面科学会 ,  応用物理学会 ,  日本物理学会
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