研究者

J-GLOBAL ID：200901046551760756 更新日: 2022年09月30日

塩嵜忠

シオサキタダシ | Shiosaki Tadashi

所属機関・部署：
職名：教授

研究分野 (5件)：電子デバイス、電子機器 , 電気電子材料工学 , 光工学、光量子科学 , 結晶工学 , 応用物性

研究キーワード (17件)：環境保全 , 鉛フリー , PTC , 表面波 , マイクロ波 , 誘電体 , 電気的性質 , 圧電 , 光学デバイス , 光学的性質 , 強誘電体 , セラミックス , 単結晶 , 薄膜 , Electrical Properties and Applications of Ferroelectric Thin Film , Optical and Piezoelectrical Single Crystal and Ceramics , Growth and Properties of Ferroelectric Thin Film

競争的資金等の研究課題 (14件)：

1990 - MOCVDならびにスパッタリング法による強誘電体薄膜の作製とその特性評価
光応用・超音波応用
強誘電体薄膜作製
強誘電体・圧電体のデバイス応用
可変容量マイクロ波誘電体薄膜の作製とその周波数フィルタへの応用

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MISC (195件)：

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特許 (6件)：

ジルコニア粉末、該ジルコニア粉末を用いて得られるチタン酸バリウム系半導体磁器組成物およびその製造方法
有機金属化学気相堆積装置用原料気化器
液体充填平衡気化を可能とする有機金属化学気相推積装置用原料気化器
圧電材料及び圧電部材
圧電材料、圧電デバイス用基板及び表面弾性波装置

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書籍 (22件)：

「電気電子材料」 series電気・電子・情報系 6
共立出版株式会社 2005
絶縁・誘電セラミックスの応用技術
シーエムシー出版 2003
半導体セラミックスの応用技術
シーエムシー出版 2003
圧電材料とその応用
シーエムシー出版 2002
"Growth of LiNbO<sub>3</sub> Thin Films by Bias Sputtering"
Proceedings of the Eleventh IEEE International Symposium on Applications of Ferroelectrics 1998

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Works (6件)：

MOCVD法による酸化物薄膜の作製
2005 -
Fabrication of thin oxide films by MOCVD
2005 -
電子セラミックスの環境に与える影響に関する国際会議(上海会議)
2003 -
Meeting on Environmental Aspects of Electroceramics In Shanghai
2003 -
強誘電体膜の研究
1998 - 2000

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学歴 (4件)：

- 1968 京都大学工学研究科電気工学第二
- 1968 京都大学
- 1966 京都大学工学部電子工学
- 1966 京都大学

学位 (2件)：

工学博士 (京都大学)
工学修士 (京都大学)

経歴 (10件)：

1995 - 1998 京都大学大学院工学研究科助教授
1995 - 1998 Kyoto University, Graduate School, Assistant
1974 - 1978 京都大学工学部助教授
1974 - 1978 Kyoto University, Assistant Professor
1978 - 米国カリフォルニア大学バークレー校

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委員歴 (2件)：

1993 - 1995 IEEE(アメリカ) フェロー,論文委員,アドミニストラティブカミッティ委員
財団法人科学技術振興会誘電体研究委員会委員長

受賞 (3件)：

1981 - Fulrath Award
1981 - Fulrath Awaed
1979 - 渡辺寧賞

所属学会 (9件)：

財団法人科学技術振興会 , 日本ハイパ-サ-ミア学会 , 日本材料学会 , 日本音響学会 , 物理学会 , 応用物理学会 , 電気学会 , 電子情報通信学会 , IEEE(アメリカ)

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