研究者
J-GLOBAL ID:200901047079089286   更新日: 2024年11月18日

高村(山田) 由起子

タカムラ ユキコ | YAMADA-TAKAMURA Yukiko
所属機関・部署:
職名: 教授
ホームページURL (1件): http://www.jaist.ac.jp/ms/labs/yukikoyt/
研究分野 (4件): 薄膜、表面界面物性 ,  ナノ構造物理 ,  材料加工、組織制御 ,  ナノ材料科学
研究キーワード (11件): ナノ材料 ,  二次元材料 ,  シリセン ,  二ホウ化ジルコニウム ,  ダイヤモンド ,  窒化ガリウム ,  シリコン ,  薄膜 ,  分子線エピタキシー ,  超高真空 ,  走査プローブ顕微鏡
競争的資金等の研究課題 (17件):
  • 2021 - 2026 2.5次元物質科学の総括
  • 2021 - 2026 2.5次元構造の新奇物性開拓
  • 2020 - 2024 実験と計算の協奏による二次元フラットバンドマテリアルの創成
  • 2014 - 2018 エピタキシャルシリセンの界面制御
  • 2013 - 2016 第一原理計算によるグラフェンを超える二次元材料の研究
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論文 (79件):
  • Masahiko Kaneda, Wenjin Zhang, Zheng Liu, Yanlin Gao, Mina Maruyama, Yusuke Nakanishi, Hiroshi Nakajo, Soma Aoki, Kota Honda, Tomoya Ogawa, et al. Nanoscrolls of Janus Monolayer Transition Metal Dichalcogenides. ACS nano. 2024. 18. 4. 2772-2781
  • Chin-En Hsu, Yung-Ting Lee, Chieh-Chun Wang, Chang-Yu Lin, Yukiko Yamada-Takamura, Taisuke Ozaki, Chi-Cheng Lee. Atomically thin metallic Si and Ge allotropes with high Fermi velocities. PHYSICAL REVIEW B. 2023. 107. 11
  • Kali Prasanna Mondal, Sambhunath Bera, Ajay Gupta, Raj Kumar, Gangadhar Das, Gouranga Manna, Nobuaki Ito, Yukiko Yamada-Takamura. Tailoring the magnetic properties of Co20Fe60B20/SmCo5 bilayers: Effects of argon ion implantation. MATERIALS LETTERS. 2022. 316
  • Kali Prasanna Mondal, Sambhunath Bera, Ajay Gupta, Dileep Kumar, V. Raghavendra Reddy, Gangadhar Das, Arnab Singh, Yukiko Yamada- Tamakura. Growth behavior, physical structure, and magnetic properties of iron deposited on Tris(8-hydroxy quinoline)-aluminum. Applied Surface Science. 2021. 562. 150169-150169
  • A. Fleurence, Y. Yamada-Takamura. Adatom-induced dislocation annihilation in epitaxial silicene. 2D MATERIALS. 2021. 8. 4
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MISC (17件):
  • 深谷有喜, 𠮷信淳, アントワーヌ・フロランス, 高村(山田)由起子. ZrB2(0001)薄膜表面上の二次元Ge二重三角格子. PHOTON FACTORY NEWS. 2021. 39. 3. 24-27
  • 福本航大, LIU C., 新田寛和, FLEURENCE Antoine, 高村(山田)由起子, 大島義文. 多層GaSeの電気伝導における電子線照射効果のその場TEM観察. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2021. 68th
  • CHEN Tongmin, 米澤隆宏, 村上達也, 東嶺孝一, FLEURENCE Antoine, 大島義文, 高村(山田)由起子. Ge(111)基板上にMBE成長したGaSe薄膜の平面STM・STEM観察. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2020. 67th
  • 米澤隆宏, 村上達也, 東嶺孝一, CHEN Tongmin, 新田寛和, 久瀬雷矢, FLEURENCE Antoine, 大島義文, 高村(山田)由起子. 非柱状単位層構造を有する層状III族モノカルコゲナイド薄膜のMBE成長. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2020. 67th
  • 高村(山田) 由起子, 尾崎 泰助. 2次元材料の電子状態解析ーシリセン研究における実験と計算の協奏. 応用物理. 2017. 86. 6. 488-492
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書籍 (2件):
  • ポストグラフェン材料の創製と用途開発最前線
    株式会社エヌ・ティー・エス 2020
  • ADVANCES IN MATERIALS RESEARCH 10, Frontiers in Materials Research
    Springer 2008
講演・口頭発表等 (157件):
  • Dislocation Annihilation in Epitaxial Silicene
    (19th International Conference on Diffusion in Solids and Liquids (DSL-2023) 2023)
  • Novel two-dimensional materials stabilized on substrates
    (9th International Workshop on 2D Materials, A3 Foresight Program 2022)
  • 基板上二次元材料の原子レベル構造制御
    ((公社)日本表面真空学会 東日本合同セミナー 表面・薄膜分析シリーズ Vol.7 先端的試料作製技術〜原子層物質〜 2021)
  • Electronic structure and optical properties of GaSe with trigonal-antiprismatic structure studied by first-principles calculations
    (Materials Research Meeting 2021 2021)
  • ケイ素版グラフェン「シリセン」の物理と化学
    (ケイ素化学協会 2021年度第6回Web講演会 2021)
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学歴 (3件):
  • - 1998 東京大学 大学院工学系研究科 金属工学専攻博士課程修了
  • - 1995 東京大学 大学院工学系研究科 金属工学専攻修士課程修了
  • - 1993 東京大学 工学部 材料学科卒業
学位 (3件):
  • 博士(工学) (東京大学)
  • 修士(工学) (東京大学)
  • 学士(工学) (東京大学)
経歴 (16件):
  • 2022/04 - 現在 北陸先端科学技術大学院大学 ナノマテリアルテクノロジーセンター 教授(兼務)
  • 2020/04 - 現在 北陸先端科学技術大学院大学 先端科学技術研究科 教授
  • 2020/04 - 2021/03 北陸先端科学技術大学院大学 マテリアルサイエンス研究科 教授
  • 2016/04 - 2020/03 北陸先端科学技術大学院大学 先端科学技術研究科 准教授
  • 2011/04 - 2020/03 北陸先端科学技術大学院大学 マテリアルサイエンス研究科 准教授
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委員歴 (16件):
  • 2023/10 - 現在 日本学術会議 第26期連携会員
  • 2023/04 - 現在 応用物理学会薄膜・表面物理分科会 常任幹事
  • 2021/05 - 現在 文部科学省 科学技術・学術審議会専門委員(第11期、第12期ナノテクノロジー・材料科学技術委員会)
  • 2020 - 現在 能美市教育委員会 『能美市子ども未来創造フェスティバル』実行委員
  • 2017/04 - 現在 応用物理学会 薄膜・表面物理分科会 幹事
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受賞 (3件):
  • 2007/01 - IFCAM Workshop on Surface and Interface Science Poster Award
  • 2006/08 - 3rd Materials Science School for Young Scientists Best Poster Award
  • 2006/07 - 本多記念会 第46回原田研究奨励賞
所属学会 (3件):
アメリカ物理学会 ,  応用物理学会 ,  日本金属学会
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