研究者
J-GLOBAL ID:200901048364078677
更新日: 2025年01月16日
土井 貴史
ドイ タカシ | Doi Takashi
研究分野 (3件):
高分子材料
, 高分子化学
, 有機合成化学
研究キーワード (3件):
フォトレジスト
, 耐熱性樹脂
, 有機合成
論文 (22件):
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Takashi Doi, Tsutomu Shimokawa. Development of Positive Tone-Type Photosensitive Materials Based on A Phenolic Resin with A Low Coefficient of Thermal Expansion. Journal of Photopolymer Science and Technology. 2024. 37. 1. 101-107
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Takashi Doi, Shotaro Sudo, Tsutomu Shimokawa. Investigation on polymer design to enhance dissolution inhibition effects of photochemical acid generators for hexafluoroisopropylalcohol-containing polystyrene in non-chemically amplified resists. Journal of Polymer Science. 2023. 61. 13. 1308-1317
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Takashi Doi, Isao Nishimura, Masahiro Kaneko, Tsutomu Shimokawa. Development of Low-Residual-Stress Photosensitive Adhesive Materials for Wafer-Scale Microfluidic Device Fabrication. Journal of Photopolymer Science and Technology. 2022. 35. 4. 313-319
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Takashi Doi, Tsutomu Shimokawa. Organic-Inorganic Hybrid Thermoset-Based Dual Tone-Type Photosensitive Material. ACS Applied Polymer Materials. 2022. 4. 12. 8731-8739
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Takashi Doi, Igor Rozhanskii, Takahiro Nakamura, Tsutomu Shimokawa. Nonreversible surface relief formation in thin films of cinnamate derivatives containing benzoxazine structure. Journal of Applied Polymer Science. 2022. 139. 21. 52173-52173
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MISC (13件):
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Takashi Doi, Igor Rozhanskii, Takahiro Nakamura, Tsutomu Shimokawa. Cover Image, Volume 139, Issue 21. Journal of Applied Polymer Science. 2022. 139. 21. 51106-51106
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Takashi Doi, Yuji Yada, Kota Nishino, Makoto Sugiura, Tsutomu Shimokawa. Cover Image, Volume 58, Issue 8. Journal of Polymer Science. 2020. 58. 8
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窪 寛仁, 土井 貴史, 西村 功, 林 英治, 稗田 克彦, ピータース サラ, ヴァン・ロースブルック ルーベン. ウエハースケールマイクロ流路用感光性接着剤 (特集 電子技術・材料の最新動向). JETI = ジェティ : Japan energy & technology intelligence : エネルギー・化学・プラントの総合技術誌. 2018. 66. 1. 90-94
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土井 貴史, 宇野 高明, 西村 功, 林 英治. 新規な感光性低CTE材料の開発. JSRテクニカルレビュー = JSR technical review. 2017. 124. 6-10
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窪 寛仁, 土井 貴史, 西村 功, 林 英治, 稗田 克彦, ピータース サラ, ヴァン・ロースブルック ルーベン. ウエハースケールマイクロ流路用感光性接着剤. JSRテクニカルレビュー = JSR technical review. 2017. 124. 1-5
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特許 (14件):
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感光性樹脂組成物、パターンを有する樹脂膜並びにその製造方法、および半導体回路基板
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感光性樹脂組成物、パターンを有する樹脂膜、パターンを有する樹脂膜の製造方法、および半導体回路基板
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感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法
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重合体、樹脂組成物、樹脂膜、パターン化樹脂膜の製造方法、および電子部品
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樹脂組成物およびガス発生膜
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講演・口頭発表等 (22件):
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ウェハースケールマイクロ流路用低応力感光性接着剤の開発
(第39回国際フォトポリマーコンファレンス 2022)
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常温感光性接着剤の開発
(日本化学会 第96春季年会 2016)
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マイクロ流路デバイス製作のための感光性接着剤
(第32回国際フォトポリマーコンファレンス 2015)
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新規な感光性低線膨張係数材料の開発
(第32回国際フォトポリマーコンファレンス 2015)
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低誘電耐熱樹脂の開発
(第22回日本ポリイミド・芳香族高分子会議 2014)
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学位 (1件):
所属学会 (1件):
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