研究者
J-GLOBAL ID:200901053809329822
更新日: 2020年04月16日
高塚 登志子
タカツカ トシコ | Takatsuka Toshiko
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所属機関・部署:
国立研究開発法人産業技術総合研究所 物質計測標準研究部門
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職名:
研究員
研究分野 (4件):
電気電子材料工学
, 薄膜、表面界面物性
, 結晶工学
, 応用物性
研究キーワード (4件):
標準物質
, 半導体
, reference materials
, semiconductor
競争的資金等の研究課題 (3件):
半導体計測用標準物質開発
走査型トンネル顕微鏡による半導体ナノ構造の評価
Reference materials for semiconductor metrology
MISC (1件):
T Okui, S Hasegawa, H Fukutome, H Nakashima. Shearing orientation dependence of cleavage step structures on GaAs(110). SURFACE SCIENCE. 2000. 448. 2-3. 219-224
学位 (2件):
博士(工学) (大阪大学)
修士(工学) (大阪大学)
所属学会 (2件):
応用物理学会
, The Japan Society of Applied Physics.
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