研究者
J-GLOBAL ID:200901056842327443
更新日: 2008年12月23日
梶岡 秀
カジオカ ヒデシ | Kajioka Hideshi
所属機関・部署:
旧所属 広島県立総合技術研究所西部工業技術センター 技術次長
旧所属 広島県立総合技術研究所西部工業技術センター 技術次長 について
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職名:
次長
研究キーワード (4件):
薄膜
, 表面処理
, Thin film
, Surface treatment
MISC (6件):
Phase transition of pseudo binary Cr-Al-N films deposited by magnetron Qputlering method. Surf. Coat. Technol. 1997. 97, 590-594
Flux ionization of arc-like Ti vapor Plasma. Vacuum. 1997. 48, 893-897
Characterization of arc-like Ti vapor Plasma on the high-voltage electron beam evaporator. J. Vac. Sci. Technol. 1997. A15, 2728-2739
Phase transition of pseudo binary Cr-Al-N films deposited by magnetron sputtering method. Surf. Coat. Technol. 1997. 97, 590-594
Flux ionization of arc-like Ti vapor Plasma. Vacuum. 1997. 48, 893-897
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学位 (1件):
工学博士 (広島大学)
所属学会 (3件):
表面技術協会
, 日本真空協会
, 日本金属学会
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