研究者
J-GLOBAL ID:200901059759257262   更新日: 2020年06月01日

黒田 慧慶

クロダ エキョウ | Kuroda Ekyou
所属機関・部署:
職名: 教授
研究分野 (4件): 無機材料、物性 ,  電子デバイス、電子機器 ,  結晶工学 ,  応用物性
研究キーワード (7件): 無機材料・物性 ,  電子デバイス ,  結晶工学 ,  応用物性 ,  Inorganic Material ,  Electron Device ,  Crystal Technology
競争的資金等の研究課題 (4件):
  • 1985 - シリコンエピタキシーの低温化
  • 1985 - 半導体プロセスの研究
  • Low Temperature of Silion Epitaxy
  • Study on Silicon Semiconductor Processes
MISC (38件):
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Works (1件):
  • 高品位半導体エピタキシャル成長技術の研究
    1991 -
学歴 (4件):
  • - 1968 名古屋大学 化学
  • - 1968 名古屋大学
  • - 1966 名古屋大学 化学
  • - 1966 名古屋大学
学位 (2件):
  • 工学博士 (名古屋大学)
  • 理学修士 (名古屋大学)
所属学会 (3件):
日本結晶成長学会 ,  日本化学会 ,  応用物理学会
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