研究者
J-GLOBAL ID:200901060451870557
更新日: 2020年04月28日
吉野 雄信
ヨシノ タケノブ | Yoshino Takenobu
所属機関・部署:
独立行政法人産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター
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ホームページURL (1件):
http://www.aist.go.jp/RESEARCHERDB/cgi-bin/worker_detail.cgi?call=namae&rw_id=T11202735
MISC (2件):
T Yoshino, N Hata, T Kikkawa. Transient capacitance spectroscopy of copper-ion-drifted methylsilsesquiazane-methylsilsesquioxane interlayer dielectrics. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS. 2004. 43. 12. 8026-8027
Evaluation of Copper Ion Drift in Low-Dielectric-Constant Interlayer Films by Transient Capacitance Spectroscopy. MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS. 2003. 766. 217-222
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