HaLida Homyara

ハリダホムヤラ | Halida Homyara

所属機関・部署：
職名：大学院学生(博士課程)

研究キーワード (1件)： Plasma Application

競争的資金等の研究課題 (1件)：

MISC (35件)：

Application of TiO₂ and TiN Films Deposited by EBEP,. The 20^th Symposium on Plasma Processing,. 2003. 185-186
Industrial applications of TiO2 coating in heat mirror and TiO2/TiN/TiO2 films deposited by EBEP plasma gun. The seventh Internatinal Symposium on Sputtering & Plasma Processes, ISSP 2003,. 2003. 503-506
Life and Color of Anatase Phase of TiO2 Film Deposited by Electron-Beam Excited Plasma(EBEP). Recent Research Developments in Vacuum Science & Technology. 2003. 4. 61-70
Application of TiO₂ and TiN Films Deposited by EBEP,. The 20^th Symposium on Plasma Processing,. 2003. 185-186
Industrial applications of TiO2 coating in heat mirror and TiO2/TiN/TiO2 films deposited by EBEP plasma gun. The seventh Internatinal Symposium on Sputtering & Plasma Processes, ISSP 2003,. 2003. 503-506

学歴 (1件)：

- 1998 Rajshahi University Bangladesh Applied phy : Elec. Applied phys. Electronics

学位 (1件)：

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