研究者
J-GLOBAL ID:200901061321969701   更新日: 2022年09月13日

小林 光

コバヤシ ヒカル | Kobayashi Hikaru
所属機関・部署:
職名: 教授
研究分野 (3件): エネルギー化学 ,  電気電子材料工学 ,  半導体、光物性、原子物理
研究キーワード (6件): 太陽電池 ,  電子材料物性 ,  半導体・誘電体物性 ,  solar cell ,  Electronic Materials Science ,  semiconductor and dielectrics physics
競争的資金等の研究課題 (6件):
  • 2000 - 2005 シリコン酸化膜の低温成長に関する研究
  • 2000 - 2005 MIS型太陽電池に関する研究
  • 半導体のバンドギャップ内の界面準位に関する研究
  • Study on Interface States in Semiconductor Band-gap
  • Study on the Low Temperatrue Formation of Silicon Oxide Layers
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MISC (340件):
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特許 (49件):
  • Semiconductor and a Method for Manufacturing on Oxide Film on the Surface of a Semiconductor Substrate
  • Semiconductor and a Method for Manufacturing on Oxide Film on the Surface of a Semiconductor Substrate
  • Semiconductor and a Method for Manufacturing on Oxide Film on the Surface of a Semiconductor Substrate
  • Method of Apparatus for Manufacturing Semiconductor Devices
  • Method of Apparatus for Manufacturing Semiconductor Devices
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書籍 (3件):
  • Determination of the Energy Distribution of Interface States in the Si forbidden gap by XPS measurements under bias
    Precision Science and Technology for Perfects Surfacrs 1999
  • Ultrathin MOS gate insulators : surface preparation, growth, and Interface control
    Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films 1997
  • Interface states for MOS devices with an ultrathin oxide layers
    The phsics and chemistry of SiO<sub>2</sub> and the SiO<sub>2</sub> interface -3 1996
Works (3件):
  • 硝酸酸化法を用いる新規シリコン低温酸化装置の実用化研究
    2005 -
  • 極限ゲート構造によるシステムディスプレイの超低消費電力化
    2005 -
  • 新産業創造指向インターナノサイエンス
    2005 -
学歴 (4件):
  • - 1984 京都大学 理学研究科 化学専攻
  • - 1984 京都大学
  • - 1979 大阪大学 理学部 化学科
  • - 1979 大阪大学
学位 (1件):
  • 理学博士 (京都大学)
所属学会 (7件):
The Electrochemical Society ,  日本物理学会 ,  American Physical society ,  日本表面科学会 ,  American Association for the Advancement of Science ,  応用物理学会 ,  日本化学会
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