研究者
J-GLOBAL ID:200901061321969701   更新日: 2024年11月15日

小林 光

コバヤシ ヒカル | Kobayashi Hikaru
所属機関・部署:
職名: 名誉教授
研究分野 (4件): 分子生物学 ,  エネルギー化学 ,  電気電子材料工学 ,  半導体、光物性、原子物理
研究キーワード (9件): シリコン製剤 ,  体内水素発生 ,  酸化ストレス ,  太陽電池 ,  電子材料物性 ,  半導体・誘電体物性 ,  solar cell ,  Electronic Materials Science ,  semiconductor and dielectrics physics
競争的資金等の研究課題 (10件):
  • 2013 - 2018 相界面制御法による極低反射率の達成と結晶シリコン太陽電池の超高効率化
  • 2005 - 2010 極限ゲート構造によるシステムディスプレイの超低消費電力化
  • 2000 - 2005 新規化学結合を用いるシリコン薄膜太陽電池
  • 2000 - 2005 シリコン酸化膜の低温成長に関する研究
  • 2000 - 2005 MIS型太陽電池に関する研究
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論文 (139件):
  • Masato Shimada, Yoshihisa Koyama, Yuki Kobayashi, Yasunari Matsumoto, Hikaru Kobayashi, Shoichi Shimada. Si-based agent alleviated small bowel ischemia-reperfusion injury through antioxidant effects. Scientific Reports. 2024. 14. 1
  • Naoya Otani, Koichi Tomita, Yuki Kobayashi, Kazuya Kuroda, Hikaru Kobayashi, Tateki Kubo. Hydrogen-Generating Silicon-Based Agent Improves Fat Graft Survival in Rats. Plastic and Reconstructive Surgery. 2024. 154. 1. 90e-99e
  • Shogo Togawa, Noriyoshi Usui, Miyuki Doi, Yuki Kobayashi, Yoshihisa Koyama, Yukiko Nakamura, Koh Shinoda, Hikaru Kobayashi, Shoichi Shimada. Neuroprotective effects of Si-based hydrogen-producing agent on 6-hydroxydopamine-induced neurotoxicity in juvenile mouse model. Behavioural Brain Research. 2024. 468
  • Riri Jonuarti, Wilson Agerico Diño, Hikaru Kobayashi, Suprijadi, Ratnawulan, Rahmat Hidayat. Hydrogen generation via water splitting with hexagonal silicon monolayers as (photo)catalysts. Molecular Catalysis. 2024. 559
  • Yoshihisa Koyama, Yuki Kobayashi, Hikaru Kobayashi, Shoichi Shimada. Diverse Possibilities of Si-Based Agent, a Unique New Antioxidant. Antioxidants (Basel, Switzerland). 2023. 12. 5
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MISC (368件):
  • Noriyoshi Usui, Hikaru Kobayashi, Shoichi Shimada. Neuroinflammation and Oxidative Stress in the Pathogenesis of Autism Spectrum Disorder. International Journal of Molecular Sciences. 2023. 24. 6
  • 赤井 智喜, 入鹿 大地, 今村 健太郎, 小林 光. 8aAK-4 Pt針を用いたウェットエッチングによる高アスペクト比シリコンマイクロホールの形成メカニズム(8aAK 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長)). 日本物理学会講演概要集. 2014. 69. 2. 641-641
  • 今村 健太郎, 入鹿 大地, 謝 〓, 小林 光. 8aAK-5 Pt触媒を用いてHF/H_2O_2溶液中で形成したSiナノクリスタル層/Si構造の極低反射率のメカニズム(8aAK 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長)). 日本物理学会講演概要集. 2014. 69. 2. 641-641
  • 今村 健太郎, 松本 健俊, 小林 光. 28pJA-6 シリコン源を用いた硝酸酸化法によるSiO_2/Si構造の形成メカニズムとその特性(表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長)). 日本物理学会講演概要集. 2013. 68. 2. 833-833
  • 王 カイ, 松本 健俊, 高橋 昌男, 小林 光. 24pCC-11 シアン化処理法を用いた欠陥除去と洗浄による太陽電池用シリコン基板のライタイムの向上(24pCC 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長)). 日本物理学会講演概要集. 2012. 67. 1. 938-938
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特許 (180件):
書籍 (3件):
  • Determination of the Energy Distribution of Interface States in the Si forbidden gap by XPS measurements under bias
    Precision Science and Technology for Perfects Surfacrs 1999
  • Ultrathin MOS gate insulators : surface preparation, growth, and Interface control
    Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films 1997
  • Interface states for MOS devices with an ultrathin oxide layers
    The phsics and chemistry of SiO<sub>2</sub> and the SiO<sub>2</sub> interface -3 1996
Works (3件):
  • 硝酸酸化法を用いる新規シリコン低温酸化装置の実用化研究
    2005 -
  • 極限ゲート構造によるシステムディスプレイの超低消費電力化
    2005 -
  • 新産業創造指向インターナノサイエンス
    2005 -
学歴 (4件):
  • - 1984 京都大学 理学研究科 化学専攻
  • - 1984 京都大学
  • - 1979 大阪大学 理学部 化学科
  • - 1979 大阪大学
学位 (1件):
  • 理学博士 (京都大学)
所属学会 (7件):
The Electrochemical Society ,  日本物理学会 ,  American Physical society ,  日本表面科学会 ,  American Association for the Advancement of Science ,  応用物理学会 ,  日本化学会
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