研究者
J-GLOBAL ID:200901063261014173   更新日: 2024年03月12日

浜口 智志

ハマグチ サトシ | Hamaguchi Satoshi
所属機関・部署:
職名: 教授
ホームページURL (1件): http://www.camt.eng.osaka-u.ac.jp/hamaguchi/
研究分野 (3件): 核融合学 ,  プラズマ応用科学 ,  プラズマ科学
研究キーワード (3件): 数値シミュレーション ,  プラズマ化学 ,  プラズマ物理学
競争的資金等の研究課題 (30件):
  • 2023 - 2025 二次元材料プラズマ支援原子層堆積におけるプラズマ表面相互作用
  • 2021 - 2025 プラズマ支援原子層プロセスの非平衡表面反応の解明
  • 2018 - 2020 機械学習支援によるプラズマ表面反応解析原理の確立
  • 2015 - 2020 多階層シミュレーションによる新規多様材料プラズマプロセスの量子論的理解
  • 2015 - 2018 大気圧プラズマによるバイオ表面制御機構の多階層シミュレーション解析
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論文 (504件):
  • Fatima Jenina Arellano, Márton Gyulai, Zoltán Donkó, Peter Hartmann, Tsanko V Tsankov, Uwe Czarnetzki, Satoshi Hamaguchi. First-principles simulation of optical emission spectra for low-pressure argon plasmas and its experimental validation. Plasma Sources Science and Technology. 2023
  • Anjar Anggraini Harumningtyas, Tomoko Ito, Michiro Isobe, Lenka Zajíčková, Satoshi Hamaguchi. Molecular dynamics simulation of amine formation in plasma-enhanced chemical vapor deposition with hydrocarbon and amino radicals. Journal of Vacuum Science & Technology A. 2023
  • N Saura, D Garrido, S Benkadda, K Ibano, Y Ueda, S Hamaguchi. Spectroscopic analysis improvement using convolutional neural networks. Journal of Physics D: Applied Physics. 2023. 56. 35
  • Enggar Alfianto, Kazumasa Ikuse, Satoshi Hamaguchi. Global numerical simulation of chemical reactions in phosphate-buffered saline (PBS) exposed to atmospheric-pressure plasmas. Plasma Sources Science and Technology. 2023
  • Satoshi Hamaguchi. High-throughput SiN ALE: surface reaction and ion-induced damage generation mechanisms. Japanese Journal of Applied Physics. 2023
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MISC (217件):
  • 浜口 智志. Why are physical sputtering yields similar for incident ions with different masses??physical sputtering yields of the Lennard-Jones system. Journal of Physics D: Applied Physics. 2022. 55. 225209-225209
  • 唐橋一浩, 伊藤智子, 浜口智志. エッチング表面反応の実験的理論的アプローチ. 応用物理. 2022. 91. 3. 164-168
  • Abdulrahman H. Basher, Marjan Krstic, Karin Fink, Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Wolfgang Wenzel, Satoshi Hamaguchi. Formation and desorption of nickel hexafluoroacetylacetonate Ni(hfac)(2) on a nickel oxide surface in atomic layer etching processes (vol 38, 052602, 2020). JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2021. 39. 5
  • Kang Hojun, 伊藤 智子, Um Junghwan, Kokura Hikaru, Kang Taekyun, Cho Sung-Il, Park Hyunjung, 唐橋 一浩, 浜口 智志. H+、O+イオン照射によるフッ化Y2O3表面反応. 応用物理学会学術講演会講演予稿集. 2021. 2021.1. 1465-1465
  • 伊藤 智子, 唐橋 一浩, 浜口 智志. βジケトンを用いた遷移金属原子層エッチング(ALE) の脱離生成物計測と反応機構解明. 応用物理学会学術講演会講演予稿集. 2021. 2021.1. 1463-1463
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特許 (40件):
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書籍 (12件):
  • プラズマプロセスの基礎と素過程」 浜口智志: 第25回プラズマエレクトロニクス講習会テキスト
    (公社)応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会 2014
  • プラズマ原子分子過程ハンドブック
    大阪大学出版会 2011 ISBN:4872593626
  • プラズマ原子分子過程ハンドブック
    大阪大学出版会 2011 ISBN:9784872593624
  • 「プラズマエッチング表面反応シミュレーション」 “ドライ・ウエットエッチング技術全集”
    技術情報協会 2009
  • 「プラズマフォトニクス」“光とナノが創る科学と産業”
    株式会社アドスリー 2009
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学歴 (3件):
  • 1984 - 1988 ニューヨーク大学 大学院芸術科学系研究科 数学専攻
  • 1982 - 1987 東京大学 大学院理学系研究科 物理学専攻
  • 1978 - 1982 東京大学 理学部 物理学科
学位 (2件):
  • 博士(理学) (東京大学)
  • Ph.D. (ニューヨーク大学)
委員歴 (17件):
  • 2020/01 - 現在 25th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC25) Co-Chair, Program Committee
  • 2020/01 - 現在 25th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC25) Co-Chair, Local Organizing Committee
  • 2019/12 - 現在 Plasma Medicine (Begell House Publishing) Editor-in-Chief
  • 2019/01 - 現在 12th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing (JSPP-11) Co-Chair, Organizing Committee,
  • 2019/01 - 現在 3nd International Conference on Data-Driven Plasma Science (ICDDPS) Co-Chair, Executive Scientific Committee,
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受賞 (9件):
  • 2022/09 - 応用物理学会 応用物理学会フェロー 非線形プラズマ及びプラズマ物質相互作用に関する研究
  • 2022/01 - 日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会 プラズマ材料科学賞 基礎部門賞 計算科学を中心とした半導体プラズマプロセス、プラズマ医療の研究
  • 2019/09 - German Research Foundation Mercator Fellow
  • 2019/09 - 応用物理学会 応用物理学会論文賞
  • 2016/11 - American Vacuum Society Plasma Prize
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