研究者
J-GLOBAL ID:200901065367517711   更新日: 2020年08月31日

川口 喜三

カワグチ ヨシゾウ | Kawaguchi Yoshizo
所属機関・部署:
職名: 主任研究員
ホームページURL (1件): http://www.aist.go.jp/RESEARCHERDB/cgi-bin/worker_detail.cgi?call=namae&rw_id=Y62705990
研究分野 (1件): 光工学、光量子科学
研究キーワード (3件): レーザープロセス 微細加工 石英ガラス 分光分析 ,  optical property ,  laser process
競争的資金等の研究課題 (3件):
  • 2006 - 2008 石英ガラスのレーザー光化学加工による高機能微細デバイス作製技術の開発
  • 2004 - 2006 Development of laser-Induced backside wet etching (LIBWE) for the fabrication of highly functional micro-devices on silica glass
  • 2002 - 2003 次世代短波長光リソグラフィーを実現する新真空紫外域光学材料の開発
論文 (77件):
MISC (42件):
学歴 (2件):
  • 京都大学理学部物理系
  • 京都大学大学院理学研究科物理学第一専攻
学位 (1件):
  • 理学博士 (京都大学)
所属学会 (3件):
日本レーザー学会 ,  日本物理学会 ,  応用物理学会
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