研究者

J-GLOBAL ID：200901068738333600 更新日: 2008年01月17日

羅先剛

ルオシェヌガン | Luo Xiangang

所属機関・部署：
職名：フロンティア研究員

研究キーワード (3件)： Laser cooling , Lithography , 微細加工

競争的資金等の研究課題 (2件)：

微細加工、フォトニック結晶、原子操作
Nanolithography, Photocrystal, Atom manipulation

MISC (10件)：

New technology which can improve lithography resolution. ACTA Photonica Sinila, Vol.29, No.9, pp.834-837 (2000)
New mask having functions of OAI and PSM to realize sub-0.2micrometer patterns with 248nm in microlithography. SPIE-int. Soc. Opt. Eng. Vol.3679, pt.1-2, pp.745-749 (1999)
Study of OAI and PSM used in 193nm Microlithography. SPIE-int. Soc. Opt. Eng. Proceeding of SPIE, Vol.3741, pp.253-260 (1999)
Method to devise Multi-phase complex Mask in sub-micron lithography. SPIE-int. Soc. Opt. Eng. Proceeding of SPIE, Vol.3873, pt.1-2, pp.987-994 (1999)
0.13 mn photolithography using inverse fourier transform convolution filtering. Optical Engineering, Vol.39, No.11, pp.2943-2946 (2000)

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特許 (5件)：

Reclaimable atom oven
Quadrupole illumination optical system for stepper
Off-axis mask
Resolution self-enhancing mask
Phase grating illumination optical system for stepper

学歴 (2件)：

Zhejiang University
University of Electronic Science and Technology

学位 (1件)：

Ph. D. Optical Engineering

経歴 (7件)：

1995/06 - 2001/03 : Research Assistant, Zhejiang University
1994/05 - 1995/05 : Software Engineer, Beijing HuiYuan
1993/09 - 1994/05 : Teaching Assistant, Textile Institute of
1993/01 - 1993/06 : Teaching Assistant, Normal Univ of SiChuan,
Electronic Corporatoon

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受賞 (4件)：

beam annual symposiums by Chinese Electron Corporation
: The Excellent Prize on Electron beam, zon beam and photon
1998: Excellent Prize of President of Chinese Academy of Sciences
1999: Excellent Graduate Student of Chinese Academy of Sciences

所属学会 (1件)：

The Chinese Society of Optics

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