研究者
J-GLOBAL ID：200901070192704533   更新日: 2020年08月27日

福富 勝夫

フクトミ マサオ | Fukutomi Masao
所属機関・部署：
独立行政法人物質・材料研究機構 ナノデバイス研究グループ 第2サブグループ

独立行政法人物質・材料研究機構 ナノデバイス研究グループ 第2サブグループ について


職名： サブグループリーダ
競争的資金等の研究課題 (2件)：
  • 高Tc超伝導体用の薄膜プロセシング
  • Thin Film Processing For High-Tc Superconductors
MISC (6件)：
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特許 (2件)：
  • 結晶配向薄膜製造装置
  • Crystal-oriented thin film manufacturing apparatus
学歴 (2件)：
  • 東京大学工学部
  • 東京大学大学院工学系研究科
学位 (1件)：
  • 工学博士
受賞 (2件)：
  • 応用物理学会論文賞
  • The Ichimura Award
所属学会 (3件)：
The Surface Finishing Society of Japan ,  The Japan Society of Applied Physics ,  The Japan Institute of Metals
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