百瀬義広

モモセヨシヒロ | Momose Yoshihiro

所属機関・部署：
職名：教授

研究分野 (3件)：材料加工、組織制御 , 薄膜、表面界面物性 , 基礎物理化学

研究キーワード (3件)：イオン放出 , 格子欠陥薄膜電子放出 , Defects Thin film Electron and ion emission

競争的資金等の研究課題 (4件)：

2002 - 2005 ナノ薄膜、半導体の電子的欠陥解析技術の開発
2002 - 2005 Development of temperature programmed photoelectron emission technique for thin film and semiconductor surface analysis
プラズマを用いた表面改質と機能性表面の作製
Surface plasma modification for functional surface formation

MISC (151件)：

Takao Sakurai, Yoshihiro Momose, Keiji Nakayama. New method to determine the work function using photoelectron emission. e-Journal of Surface Science and Nanotechnology. 2005. 3. 179-183
New method to determine the work function using photoelectron emission. e-J. Surf. Sci. Nanotech. 2005. 3. 179-183
Surface electronic states and electrostatic attractive forces between metals or semiconductor and tribocharged polymer. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2005. 872. J21.1.1-J21.1.6
Photoelectron emission technique for the surface analysis of silicon wafer covered with oxide film. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2005. 864. E9.34.1-E9.43.6
Surface electronic states and electrostatic attractive forces between metals or semiconductor and tribocharged polymer. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2005. 872. J21.1.1-J21.1.6

書籍 (6件)：

表面電位 in 水ハンドブック (分担執筆)
丸善 2003
Temperature-programmed photoelectron emission analysis of copper surfaces subjected to cleaning and abrasion in organic liquids
2nd International Conference on Processing Materials for Properties, TMS (San Francisco, California) 2000
Temperature-programmed photoelectron emission analysis of copper surfaces subjected to cleaning and abrasion in organic liquids
2nd International Conference on Processing Materials for Properties, TMS (San Francisco, California) 2000
実用表面改質技術総覧第4章表面特性、第6節エキソ電子放出(分担執筆)
材料技術研究協会,産業技術サービスセンター 1993
摩砕砂粒(アルミノケイ酸塩)の熱刺激エキソ電子放射とビニル重合との関係 in 無機物質とポリマーとの相互作用
経営開発センター出版部 1988

学歴 (2件)：

学位 (1件)：

所属学会 (3件)：

日本化学会 , 表面技術協会 , 日本トライボロジー学会

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百瀬 義広