研究者
J-GLOBAL ID:200901093428883329   更新日: 2024年10月31日

大西 桂子

オオニシ ケイコ | Onishi Keiko
所属機関・部署:
職名: 主任エンジニア
研究分野 (3件): 薄膜、表面界面物性 ,  ナノバイオサイエンス ,  ナノ材料科学
研究キーワード (3件): 標準化 ,  ヘリウムイオン顕微鏡 ,  SPM
競争的資金等の研究課題 (2件):
  • 2006 - AFM像の探針効果除去
  • 2003 - AFM image restoration
論文 (17件):
  • Keiko ONISHI. ヘリウムイオン顕微鏡による表面化学分析用標準試料の経年変化の解析. 表面と真空. 2021
  • Keiko ONISHI. In situ voltage-application system for active voltage contrast imaging in helium ion microscope. Journal of Vacuum Science & Technology B. 2018
  • Keiko ONISHI. Inhomogeneous composition distribution in monolayer transition metal dichalcogenide alloys. Materials Research Express. 2017
  • Keiko ONISHI. Advanced in situ multi-scale characterization of hardness of carbon-fiber-reinforced plastic. Japanese Journal of Applied Physics. 2016
  • Keiko ONISHI. The Effect of Magnesium Ions on Chromosome Structure as Observed by Helium Ion Microscopy. Microscopy and Microanalysis. 2014
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MISC (2件):
  • Growth of InSb microcrystals on a Te-terminated InSb Substrate by Droplet Epitaxy ・・・
  • Growth of InSb microcrystals on a Te-terminated InSb Substrate by Droplet
学歴 (1件):
  • - 1990 東京理科大学 理工学部 工業化学科
所属学会 (3件):
日本表面真空学会 ,  応用物理学会 ,  The Japan Society of Applied Physics
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