研究者
J-GLOBAL ID:200901093892674147   更新日: 2020年05月23日

中村 勝光

ナカムラ カツミツ | Nakamura Katsumitsu
所属機関・部署:
職名: 准教授
研究分野 (3件): 電子デバイス、電子機器 ,  ナノバイオサイエンス ,  ナノ材料科学
研究キーワード (1件): 無機薄膜材料
競争的資金等の研究課題 (7件):
  • 2004 - 2008 気相成長法による配向性カーボンナノチューブの生成
  • 2001 - 2008 有機金属化学気相成長法による炭化ケイ素膜の作成
  • 2001 - 2008 スパッタリングCVD法によるダイヤモンド系(窒化炭素)析出物の作製
  • 2001 - 2005 超伝導性二ホウ化マグネシウム(MgB2)薄膜作成法の開発
  • 気相成長法による立方晶窒化ホウ素(c-BN)薄膜の作製
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MISC (75件):
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特許 (4件):
書籍 (4件):
  • ホウ素・ホウ化物の基礎と応用
    シーエムシー出版 2008
  • セラミックスの辞典
    朝倉書店 2008
  • Boron Films
    Boron Films Electric Refractory Materials Marcel Dekker, Inc. 2000
  • Preparation of Boron Nitride Films by Chemical Vapor Deposition
    Material Science forum 1990
Works (3件):
  • 公開特許公報 特開平9-227111 発明の名称: フラーレンの分離精製装置及び分離精製法
    1997 -
  • 公開特許公報 昭63-14577 発明の名称: 六方晶窒化ホウ素膜の製造方法
    1988 -
  • 公開特許公報 昭63-14578 発明の名称: 太鼓膜状六方晶窒化ホウ素膜の製造方法
    1988 -
学歴 (1件):
  • - 1967 日本大学 文理学部(理科系) 化学科
学位 (1件):
  • (工学)博士 (横浜国立大学)
所属学会 (5件):
日本化学会 ,  日本応用物理学会 ,  日本金属学会 ,  表面技術協会 ,  電気化学協会
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