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J-GLOBAL ID：200902002100269494   整理番号：93A0168636

KrFエキシマレーザリソグラフィーにおける単分散PHS系ポジ型レジスト(MDPR)の特性

Characteristics of a Monodisperse PHS-Based Positive Resist (MDPR) in KrF Excimer Laser Lithography.

著者 (3件)： KAWAI Y (NTT LSI Lab., Kanagawa) ,  TANAKA A (NTT LSI Lab., Kanagawa) ,  MATSUDA T (NTT LSI Lab., Kanagawa)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 31  号： 12B  ページ： 4316-4320  発行年： 1992年12月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (5件)： KrFエキシマレーザ ,  リソグラフィー ,  単分散 ,  PHS ,  ポジ型レジスト