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J-GLOBAL ID：200902004513884475   整理番号：85A0387849

電子援助化学気相成長法によるダイヤモンド薄膜の成長

Growth of diamond thin films by electron assisted chemical vapor deposition.

著者 (2件)： SAWABE A (Aoyama Gakiun Univ., Tokyo) ,  INUZUKA T (Aoyama Gakiun Univ., Tokyo)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 46  号： 2  ページ： 146-147  発行年： 1985年01月15日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 新たに考案された化学気相成長法を用いて,SiC基板上に,3~...

シソーラス用語： 化学蒸着 ,...

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分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (5件)： 電子 ,  援助 ,  化学気相成長法 ,  ダイヤモンド薄膜 ,  成長