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J-GLOBAL ID：200902005281283140   整理番号：84A0041876

めっき技術を用いた高密度ディスクおよび薄膜ヘッド

著者 (3件)： 菅沼葉二 (日本電気マイクロエレクトロニクス研) ,  後藤文男 (日本電気マイクロエレクトロニクス研) ,  おお坂哲弥 (早稲田大理工)
資料名： 金属表面技術  (Journal of the Metal Finishing Society of Japan)
巻： 34  号： 6  ページ： 254-260  発行年： 1983年06月 
JST資料番号： G0441A  ISSN： 0026-0614  CODEN： KZHGAY  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 磁気ディスク装置のキーデバイスであるディスクの高密度化を担う...

シソーラス用語： 磁気ディスク ,...

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分類 (3件)： 無電解めっき  (WC08024S) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  電子・磁気・光学記録  (NC06020F)

引用文献 (24件)：

• 1) P. H. Hogland and M. L. Holt; The Electrodeposition of Nickel-Cobalt-Tungsten Alloys, Symposium on “Before and After Plating” October 24, 1945, N.Y.
• 2) P. P. Zapponi; U.S. Patent 2,619,454 (Nov. 25, 1952)
• 3) I. Tsu; A New Cobalt-Nickel Sulfamate Bath, Plating, 48, 379 (1961)
• 4) I. Tsu; Composition of Cobalt-Nickel Films, Plating, 48, 1207 (1961)
• 5) 川又晃; 磁気ドラム記憶装置に関する研究, 通研・研究実用化報告, 11-7, 1143 (1962)

タイトルに関連する用語 (4件)： めっき技術 ,  高密度 ,  ディスク ,  薄膜ヘッド