電子線近接印刷を用いたスループットの高いサブミクロンリソグラフィー

文献

J-GLOBAL ID：200902005819491902 整理番号：85A0012753

High throughput submicron lithography with electron beam proximity printing.

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巻： 27 号： 9 ページ： 210-217 発行年： 1984年09月
JST資料番号： E0226A ISSN： 0038-111X 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：解説発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

電子線近接印刷は,集積度の高い回路の製造での,ウエハ上で,サ...

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固体デバイス製造技術一般

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