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J-GLOBAL ID：200902007559072172   整理番号：89A0596058

LSIパターンからの反射光の偏光特性を利用した異物検出法の開発 LSIウェハ上異物の自動検出技術の研究

Contaminant detection method utilizing polarization characteristics of light reflected from LSI patterns. Automatic detecting technique for patterned wafer surface contaminants inspection.

著者 (2件)： 小泉光義 (日立 生産技研) ,  秋山伸幸 (日立 生産技研)
資料名： 計測自動制御学会論文集  (Transactions of the Society of Instrument and Control Engineers)
巻： 25  号： 9  ページ： 954-961  発行年： 1989年09月 
JST資料番号： S0104A  ISSN： 0453-4654  CODEN： KJSRA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 小規模な回路構成で実時間処理可能な標記検出法を開発した。異物...

シソーラス用語： LSI【IC】 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (12件)：

• 1) 服部毅:VLSIプロセスにおけるコンタミネーション・コントロール,月刊Semiconductor World, 5-12, 119/125 (1986)
• 2) R.G. Knollenberg: A Polarization Diversity Surface Analysis System, Proc. SPIE, 774, 32/40 (1987)
• 3) P. Lilienfeld: Optical Detection of Particle Contamination on Surface: A Review (Aerosol Science and Technology 5), 145/165, Elsevier Science Publishing Co. Inc. (1986)
• 4) 小泉,ほか:LSIウェハパターンからの反射光の解析,計測自動制御学会論文集, 21-8, 86/92 (1985)
• 5) 小泉,ほか:LSIプロセスにおける微小異物検出技術,日立評論, 68-9, 43/48 (1986)

タイトルに関連する用語 (9件)： LSI ,  反射光 ,  偏光特性 ,  異物検出 ,  開発 ,  ウェハ ,  異物 ,  自動検出 ,  研究