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J-GLOBAL ID：200902010103409974   整理番号：92A0797359

AlCl₃/NH₃/TiCl₄ 3元系熱CVD (2) 膜morphologyの成膜件依存性

AlCl₃/NH₃/TiCl₄ ternary system thermal CVD.(2).Film formation condition dependence of film morphology.

著者 (4件)： 劉憶軍 (東大 工) ,  金ていよく (東大 工) ,  江頭靖幸 (東大 工) ,  小宮山宏 (東大 工)
資料名： 化学工学会秋季大会研究発表講演要旨集
巻： 25th  号： Pt 3  ページ： 6  発行年： 1992年08月 
JST資料番号： L0827A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： AlCl₃とTiCl<sub>4</s...

シソーラス用語： 化学蒸着 ,...

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分類 (1件)： 非金属材料へのセラミック被覆  (YC02040K)

タイトルに関連する用語 (6件)： AlCl3 ,  NH3 ,  TiCl4 ,  熱CVD ,  成膜 ,  依存性