文献

J-GLOBAL ID：200902011932138720   整理番号：90A0306326

無電解ニッケルめっきの初期析出過程

Initial deposition process of electroless nickel plating.

著者 (2件)： 本間英夫 (関東学院大 工) ,  野口雅司 (関東学院大 工)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 41  号： 2  ページ： 164-168  発行年： 1990年02月 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 次亜りん酸ナトリウムを還元剤とするめっきの初期析出挙動および...

シソーラス用語： 無電解めっき ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=90A0306326&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0441B") }}

分類 (1件)： 無電解めっき  (WC08024S)

引用文献 (12件)：

• 1) C. H. de Minjer and A. Brenner; Plating, 44, 1297 (1957)
• 2) D. W. Baudrand; Plat. Surf. Finish., 70, 24 (Dec. 1983)
• 3) R. N. Duncan; Products Finish., 46, 46 (Sept. 1982)
• 4) 逢坂哲彌, 小岩一郎; 表面技術, 34, 330 (1983)
• 5) 逢坂哲彌, 中島英治, 田宮幸広, 小岩一郎; 表面技術, 40, 573 (1989)

タイトルに関連する用語 (4件)： 無電解ニッケルめっき ,  初期 ,  析出 ,  過程