文献

J-GLOBAL ID：200902013237888690   整理番号：91A0755723

四面体非晶質炭素薄膜の圧縮応力誘起形成

Compressive-Stress-Induced Formation of Thin-Film Tetrahedral Amorphous Carbon.

著者 (3件)： MCKENZIE D R (Univ. Sydney, NSW, AUS) ,  MULLER D (Univ. Sydney, NSW, AUS) ,  PAILTHORPE B A (Univ. Sydney, NSW, AUS)
資料名： Physical Review Letters  (Physical Review Letters)
巻： 67  号： 6  ページ： 773-776  発行年： 1991年08月05日 
JST資料番号： H0070A  ISSN： 0031-9007  CODEN： PRLTAO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 真空アークを用いて四面体配置した非晶質炭素薄膜を成長させた。...

シソーラス用語： 薄膜成長 ,...
準シソーラス用語： 黒鉛 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=91A0755723&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=H0070A") }}

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  その他の非晶質の構造  (BK04040Z)

タイトルに関連する用語 (4件)： 四面体非晶質炭素 ,  薄膜 ,  圧縮応力 ,  誘起