文献

J-GLOBAL ID：200902013994136549   整理番号：87A0092308

イオン捕獲プロセスによる耐湿性向上

Improvement of moisture resistance by ion-trap process.

著者 (4件)： 水頭智 (松下電子工業) ,  潮崎裕行 (松下電子工業) ,  樋口弘 (松下電子工業) ,  安食恒雄 (松下電子工業)
資料名： 電子通信学会技術研究報告
巻： 86  号： 236  ページ： 7-12(R86-36)  発行年： 1986年11月21日 
JST資料番号： S0532B  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 表面実装パッケージのはんだ実装熱ストレス後の耐湿性を向上させ...

シソーラス用語： 高密度実装 ,...
準シソーラス用語： SMT

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分類 (2件)： 固体デバイス材料  (NC03020K) ,  固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G)

タイトルに関連する用語 (3件)： イオン捕獲 ,  プロセス ,  耐湿性