新しい超LSI診断技術  集束イオンビームによる多層配線回路プロービング

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J-GLOBAL ID：200902014742067036 整理番号：88A0014059

新しい超LSI診断技術集束イオンビームによる多層配線回路プロービング

A new VLSI diagnosis technique: Focused ion beam assisted multi-level circuit probing.

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資料名：
巻： 25th ページ： 111-117 発行年： 1987年
JST資料番号： A0631A ISSN： 1541-7026 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

タングステン薄膜を集束イオンビームを用いCVD法で集積回路上...

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固体デバイス計測・試験・信頼性 , 半導体集積回路

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