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J-GLOBAL ID：200902016803518632   整理番号：91A0607213

回転円盤型化学蒸着反応器におけるほぼ理想的な流れおよび熱伝導の設計と証明

Design and Verification of Nearly Ideal Flow and Heat Transfer in a Rotating Disk Chemical Vapor Deposition Reactor.

著者 (2件)： BREILAND W G (Sandia National Lab., New Mexico) ,  EVANS G H (Sandia National Lab., California)
資料名： Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 138  号： 6  ページ： 1806-1816  発行年： 1991年06月 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 研究用CVD反応器設計を,回転円盤型構成に対して提示した。こ...

シソーラス用語： 化学蒸着 ,...
準シソーラス用語： 熱伝導 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 回転円盤 ,  化学蒸着 ,  反応器 ,  流れ ,  熱伝導 ,  設計 ,  証明