{{ $t("message.ADVERTISEMENT") }}
{{ $t("message.AD_EXPIRE_DATE") }}2024年03月
文献
J-GLOBAL ID:200902017626372351   整理番号:91A0861011

浅接合ボロン高濃度拡散層形成におけるモデルの評価

Evaluation of Boron diffusion during Shallow-Junction Formation.
著者 (2件):
資料名:
巻: 91  号: 246(VLD91 47-58)  ページ: 1-7  発行年: 1991年09月26日 
JST資料番号: S0532B  ISSN: 0913-5685  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
種々のイオン打ち込み,アニール条件で試作したサンプルのボロン...
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
,...
   続きはJDreamIII(有料)にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=91A0861011&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=S0532B") }}
分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体の放射線による構造と物性の変化  ,  固体中の拡散一般 

前のページに戻る