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J-GLOBAL ID：200902017750902563   整理番号：92A0634419

三次元シリコン加速度計製造用の多段階異方性エッチングプロセス

A Multistep Anisotropic Etching Process for Producing 3-D Silicon Accelerometers.
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著者 (4件)：
KOIDE A

KOIDE A について

(Hitachi, Ltd., Ibaraki, JPN)

Hitachi, Ltd., Ibaraki, JPN について

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SATO K

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(Hitachi, Ltd., Ibaraki, JPN)

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SUZUKI S

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(Hitachi, Ltd., Ibaraki, JPN)

Hitachi, Ltd., Ibaraki, JPN について

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MIKI M

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(Hitachi, Ltd., Ibaraki, JPN)

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資料名：
Technical Digest of the Sensor Symposium  (Technical Digest of the Sensor Symposium)

Technical Digest of the Sensor Symposium について


巻： 11th  ページ： 23-26  発行年： 1992年05月 
JST資料番号： X0768A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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ガラス/Si/ガラス構造の加速度計用に,厚さがそれぞれ213...
シソーラス用語：
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加速度計

加速度計 について

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分類 (1件)：
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固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

固体デバイス製造技術一般 について

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シリコン

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加速度計

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段階

段階 について

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異方性エッチングプロセス

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