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J-GLOBAL ID:200902017817603370   整理番号:87A0051374

格子定数が大きく異なる基板上へのヘテロエピタキシー HM2のメカニズムをめぐって

Highly lattice mismatched heteroepitaxy. (HM2) and its growth mechanism.
著者 (1件):
資料名:
巻: 55  号: 11  ページ: 1069-1073  発行年: 1986年11月 
JST資料番号: F0252A  ISSN: 0369-8009  CODEN: OYBSA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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最近,標記の技術が注目を集めている。本報では,成長の第一段階...
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分類 (2件):
分類
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半導体-半導体接触【’81~’92】  ,  半導体薄膜 
引用文献 (23件):
  • 1) 第8回化合〓半導体ワークショップ (1986. 2. 下田)における,林厳雄(光共研),古川静二郎(東工大),竹田美和(京大)の諸氏と筆者らの自由討論の場で生まれた言葉.
  • 2) J. W. Matthews, A. E. Blakeslee and S. Mader: Thin Solid Films 33 (1976) 253.
  • 3) R. Fischer, T. Henderson, J. Klem, W. T. Masselink, W. Kopp and H. Morkoc: Electron. Lett. 20 (1984) 945.
  • 4) T. Soga, S. Sakai, M. Umeno and S. Hattori: J. Appl. Phys. 57 (1985) 4578.
  • 5) T. Soga, S. Sakai, M. Takeyasu, M. Umeno, and S. Hattori: Gallium Arsenide and Related Compounds, Inst. Phys. Conf. Ser. No. 79, (1986) p. 133.
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