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J-GLOBAL ID：200902018800171839   整理番号：93A0074446

空間フィルタを用いたウエハ異物検出技術

Partilcle Detection Technology on Wafer Using Spatial Filter.

著者 (4件)： 秋山伸幸 (日立 生産技研) ,  水野文夫 (日立 デバイス開セ) ,  井古田まさみ (日立 デバイス開セ) ,  高見勝己 (湘南工科大)
資料名： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
巻： 58  号： 11  ページ： 1909-1914  発行年： 1992年11月 
JST資料番号： F0268A  ISSN： 0912-0289  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： LSIの高密度化に伴い,レーザ斜方照明だけでは付着異物の検出...

シソーラス用語： 空間フィルタ ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

引用文献 (5件)：

• 1) T. Nakata & N. Akiyama : Particle Detection for Patterned Wafers Using Hybrid Optical-Digital Image Processing, Jap. J. Appl. Phys., 28, 11, (1989) 2396.
• 2) 秋山伸幸ほか : 差画像検出方式異物検査装置の開発, 精密工学会誌57, 11 (1991) 1955.
• 3) 宮崎陽子, 田中 均, 小坂宣之 : 空間フィルタ法によるパターン付半導体表面欠陥検査, 昭和63年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集, O31 (1988) 707,
• 4) 宮崎陽子ほか : 空間フィルタ法によるパターン付半導体表面欠陥検査 (第2報), 1990年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集, A60 (1990) 947.
• 5) 宮崎陽子ほか : 空間フィルタ法によるパターン付半導体表面欠陥検査 (第3報), 1991年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集, J44 (1991) 697.

タイトルに関連する用語 (3件)： 空間フィルタ ,  ウエハ ,  異物検出