VLSIに応用のためのモリブデンおよびタングステンの存在における湿水素酸化

KWASNICK R F; GORCZYCA T B; WOODRUFF D W

文献

J-GLOBAL ID：200902020931237562 整理番号：88A0216884

VLSIに応用のためのモリブデンおよびタングステンの存在における湿水素酸化

Wet hydrogen oxidation in the presence of molybdenum and tungsten for VLSI applications.

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巻： 135 号： 1 ページ： 176-179 発行年： 1988年01月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

MoまたはWの存在において,Siの発熱性酸化がH<sub>2...

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固体デバイス製造技術一般 , その他の無触媒反応

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