文献

J-GLOBAL ID：200902021550021225   整理番号：92A0219799

高密度けい素基セラミックの低温合成

Synthesis of dense silicon-based ceramics at low temperatures.

著者 (4件)： RIEDEL R (Univ. Stuttgart, Stuttgart, DEU) ,  PASSING G (Max-Planck-Inst. Metallforschung, Stuttgart, DEU) ,  SCHOENFELDER H (Max-Planck-Inst. Metallforschung, Stuttgart, DEU) ,  BROOK R J (Max-Planck-Inst. Metallforschung, Stuttgart, DEU)
資料名： Nature (London)  (Nature (London))
巻： 355  号： 6362  ページ： 714-717  発行年： 1992年02月20日 
JST資料番号： D0193B  ISSN： 0028-0836  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SiCまたはSi₃N<sub>4</s...

シソーラス用語： ニューセラミック ,...

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分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (3件)： けい素 ,  セラミック ,  低温合成