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J-GLOBAL ID：200902022710167104   整理番号：92A0271921

高解像度ノボラックレジストの解離反応速度論

Dissolution Kinetics of High Resolution Novolac Resists.
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著者 (5件)：
ITOH K

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(NEC Corp.)

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, 
KASAMA K

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(NEC Corp.)

NEC Corp. について

, 
YAMANAKA K

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(NEC Corp.)

NEC Corp. について

, 
OHFUJI T

OHFUJI T について

(NEC Corp.)

NEC Corp. について

, 
NOZUE H

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(NEC Corp.)

NEC Corp. について


資料名：
NEC Research & Development  (NEC Research & Development)

NEC Research & Development について


巻： 33  号： 1  ページ： 15-24  発行年： 1992年01月 
JST資料番号： G0138A  ISSN： 0547-051X  CODEN： NECRA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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高解像度ノボラックレジストの解離速度特性に関して,表面不溶性...
シソーラス用語：
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フォトレジスト

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分類 (1件)：
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その他の高分子の反応 
(CG03040H)

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解離

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反応速度論 について


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