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J-GLOBAL ID:200902023460480940 整理番号:89A0065261
特集:エキシマレーザによるプロセシング技術 II レーザエッチング
Special issue on semiconductor process technology by excimer laser. II. Laser induced etching.
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著者 (1件):
広瀬全孝
広瀬全孝 について
名寄せID(JGPN) 200901100494137057 ですべてを検索
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(
広島大 工
)
広島大 工 について
名寄せID(JGON) 201551000096408710 ですべてを検索
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資料名:
電気学会誌 (電気学会雑誌)
電気学会誌 について
JST資料番号 F0011A ですべてを検索
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巻:
108
号:
11
ページ:
1081-1085
発行年:
1988年11月
JST資料番号:
F0011A
ISSN:
1340-5551
CODEN:
DGZAAW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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SiおよびAlエッチングの反応エッチング,パターン転写エッチ...
シソーラス用語:
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エキシマレーザ
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