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J-GLOBAL ID：200902025292085200   整理番号：90A0726631

露光モニタ構造

Exposure monitor structure.
著者 (1件)：
STARIKOV A

STARIKOV A について

(International Business Machines Corp., NY)

International Business Machines Corp., NY について


資料名：
Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)

Proceedings of SPIE について


巻： 1261  ページ： 315-324  発行年： 1990年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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光リソグラフィーにおいて有効露光量をモニタする高感度な方法と...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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露光

露光 について

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分類 (2件)：
分類
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固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

固体デバイス製造技術一般 について

,  光学的測定とその装置一般 
(BD07010S)

光学的測定とその装置一般 について

タイトルに関連する用語 (2件)：
タイトルに関連する用語
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露光

露光 について

, 
モニタ

モニタ について


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